[發明專利]光刻設備無效
| 申請號： | 201010229247.2 | 申請日： | 2010-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN102338987A | 公開（公告）日： | 2012-02-01 |
| 發明（設計）人： | 郭勃琳 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 20120*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻設備，包括：反應腔；位于反應腔內，用于在其上形成光掩膜層的卡盤；設置在反應腔內用于固定卡盤的固定盤，連接固定盤和卡盤并用于支撐卡盤的支撐柱，其特征在于，還包括：連接至固定盤，具有多個噴嘴的清洗裝置。
2.根據權利要求1所述的光刻設備，其特征在于，所述的噴嘴至少為6個，均勻設置在固定盤上。
3.根據權利要求1所述的光刻設備，其特征在于，所述的清洗裝置包括：用于儲存清洗液的儲液槽；與儲液槽連接，用于調節儲液槽內壓強的調壓裝置；與儲液槽連接，用于調節清洗液流量的流量計；通過管路與流量計連通并連接至固定盤的多個噴嘴；與噴嘴連接用于控制噴嘴開合的控制閥。
4.根據權利要求3所述的光刻設備，其特征在于，所述的清洗裝置還包括：總儲液槽，通過壓力調節泵與儲液槽連接。
5.根據權利要求3所述的光刻設備，其特征在于，所述的多個噴嘴通過一個連接器與所述管路連接。
6.根據權利要求3所述的光刻設備，其特征在于，所述的多個噴嘴均勻分布在固定盤的邊緣。
7.根據權利要求3所述的光刻設備，其特征在于，所述的噴嘴為兩端開口的球形。
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