[發明專利]一種納米二氧化硅/尼龍1010復合材料的制備方法

無效

• 申請號: 201010226101.2
• 申請日: 2010-07-14
• 公開（公告）號: CN101899153A
• 公開（公告）日: 2010-12-01
• 發明（設計）人: 張治軍;李小紅;方秀葦;陳方飛
• 申請（專利權）人: 河南大學
• 主分類號: C08G69/28
• 分類號: C08G69/28;C08K9/10;C08K3/36;C08K5/17;C08K5/18
• 代理公司: 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) 41104
• 代理人: 田小伍;黃偉

1.一種納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，步驟如下：

將均勻分散有納米SiO₂的無水乙醇溶液與尼龍1010單體、引發劑、質子化劑、二胺類添加劑加入到密閉的聚合反應器中，于惰性氣體保護下在170℃-200℃、壓力為1.1-1.2MPa下反應；繼續加熱升溫至220-250℃、壓力控制為1.1-1.2MPa時反應結束，即得到目標產物；

各物質加入的重量份數為：

尼龍1010單體80-90份；無水乙醇10-15份；引發劑1-10份；質子化劑0.01-1.0份；二胺類添加劑0.5-5份；納米SiO₂的加入量為尼龍1010單體質量的0.05-10％；

所述納米SiO₂表面包覆有C₁-C₁₆的碳鏈化合物，納米SiO₂顆粒尺寸為5-100nm。

2.如權利要求1所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，所述引發劑為碳原子數為4-19的氨基酸。

3.如權利要求1所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，所述質子化劑為亞磷酸、磷酸、鹽酸或硫酸。

4.如權利要求1所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，所述二胺類添加劑為1，6-己二胺、間苯二胺、十二烷基二胺中的一種或幾種的混合物。

5.如權利要求1所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，納米SiO₂表面包覆的碳鏈化合物帶有可反應性官能團。

6.如權利要求5所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，所述的可反應性官能團為氨基、環氧基或羧基。

7.如權利要求1-6之一所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，將納米SiO₂加入無水乙醇后超聲0.1-1h以獲得均勻分散有納米SiO₂的無水乙醇溶液。

8.如權利要求1-6之一所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，先將聚合反應器抽真空，然后通入N₂保護。

9.如權利要求8所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，先抽真空至真空度為720-760mmHg，后充入氮氣至體系壓力達到0.1-0.3MPa。

10.如權利要求1-6之一所述的納米SiO₂/尼龍1010復合材料的制備方法，其特征在于，聚合反應時間控制為0.5-2h；反應結束后，脫水蒸汽至常壓，常壓放空40-80min。