[發明專利]一種去除高熔點黏附劑的方法

有效

• 申請號: 201010223347.4
• 申請日: 2010-06-30
• 公開（公告）號: CN102310059A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 汪寧;陳曉娟;羅衛軍;龐磊;劉新宇
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;H01L21/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 周國城

技術領域

本發明涉及半導體加工工藝技術領域，尤其涉及一種去除高熔點黏附劑的方法。

背景技術

III-V族化合物半導體材料，是現代微電子工業中的寵兒，具有許多比Si更加優秀的地方，例如更加快的傳輸速度，更加高的工作頻率，更好的功率輸出特性等。但是其散熱問題一直困擾著III-V族化合物半導體電路性能的提高，現在常用的方法多為將晶片減薄、背孔過后在背面加以電鍍工藝，形成大面積的金屬層來實現散熱。可是由于III-V族化合物半導體在機械性能方面的限制，在其厚度達到100μm以下后，半導體晶片的延展性很差，極易造成碎裂和破損；而且，在之后進行的多項后道工藝中，存在很多跟化學腐蝕和高溫處理有關的物理化學過程，在這些過程中，晶片的形變對外延結構的影響非常巨大，而且操作性復雜困難，極易造成晶片破裂。

在此情況下，最常用的方法是使用粘性很大的物質，例如粘膠，松香，特種石蠟等等，在高溫融化后，將III-V族化合物半導體晶片粘合于特殊材料的載片(例如石英托，有機玻璃托，氧化鋁陶瓷等等)上加以操作(示意圖1)，在載片和晶片間形成極薄的粘附層來對晶片進行強化，達到減小晶片形變的目的。

但是黏附劑由于熔點極高，難以處理，常會在晶片上留下殘渣，直接引入雜質，產生晶片的缺陷，使得電路性能大幅退化，并給之后的工藝和相關設備帶來極大的污染。因此，對粘附劑進行特殊的清洗和處理，減少后道工藝的污染是迫切需要解決的工藝難題。

在半導體加工工藝中所使用的高溫粘附劑，一般都會含有毒素，是多種對人體具有傷害性的有機化學品的混合材料，以往使用的去除方法是進行高溫沸煮，沸煮過程中使用的有機物在高溫時揮發速度過快，對人體有害，不易控制，而且生成物物會污染環境，對操作人員和周邊造成有害的影響。

發明內容

(一)要解決的技術問題

有鑒于此，本發明的主要目的在于提供一種去除高熔點黏附劑的方法。

(二)技術方案

為達到上述目的，本發明提供了一種去除高熔點黏附劑的方法，該方法包括：

步驟1：熱板加熱溫度260～320℃，使用石英器皿，盛滿1#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟2：熱板加熱溫度200～260℃，使用石英器皿，盛滿2#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟3：熱板加熱溫度170～200℃，使用石英器皿，盛滿3#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟4：熱板加熱溫度145～170℃，使用石英器皿，盛滿4#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟5：熱板加熱溫度100～145℃，使用石英器皿，盛滿5#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟6：熱板加熱溫度80～100℃，使用石英器皿，盛滿6#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟7：熱板加熱溫度60～80℃，使用石英器皿，使用7#清洗液，沸煮2次，每次5～10分鐘，之后用異丙醇、丙酮浸泡脫水5～10次，每次20～30秒，兆聲清洗；

步驟8：熱板加熱溫度60～80℃，使用石英器皿，盛滿8#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟9：重復上述步驟7；

步驟10：熱板加熱溫度40～60℃，使用石英器皿，盛滿9#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟11：重復上述步驟7，使用ZDMAC去膜劑煮15～25分鐘，溫度40～60℃；

步驟12：使用全自動DI沖洗20～40次，再使用不加熱的異丙醇、丙酮浸泡脫水3～5次，使用DI自動沖洗10～15次，用40～45℃熱氮氣吹干。

上述方案中，步驟1中所述1#清洗液主要成分為鄰苯二甲酸二乙酯，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值為6～9。

上述方案中，步驟2中所述2#清洗液主要成分為乙酸癸酯和聚乙二醇(PEG)，使用乙二醇作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

上述方案中，步驟3中所述3#清洗液主要成分為乙酸庚酯和聚乙二醇(PEG)，使用乙二醇作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

上述方案中，步驟4中所述4#清洗液主要成分為乙酸己酯和辛酮，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。