[發明專利]一種去除高熔點黏附劑的方法

有效

• 申請號: 201010223347.4
• 申請日: 2010-06-30
• 公開（公告）號: CN102310059A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 汪寧;陳曉娟;羅衛軍;龐磊;劉新宇
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;H01L21/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 周國城

1.一種去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，該方法包括：

步驟1：熱板加熱溫度260～320℃，使用石英器皿，盛滿1#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟2：熱板加熱溫度200～260℃，使用石英器皿，盛滿2#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟3：熱板加熱溫度170～200℃，使用石英器皿，盛滿3#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟4：熱板加熱溫度145～170℃，使用石英器皿，盛滿4#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟5：熱板加熱溫度100～145℃，使用石英器皿，盛滿5#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟6：熱板加熱溫度80～100℃，使用石英器皿，盛滿6#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟7：熱板加熱溫度60～80℃，使用石英器皿，使用7#清洗液，沸煮2次，每次5～10分鐘，之后用異丙醇、丙酮浸泡脫水5～10次，每次20～30秒，兆聲清洗；

步驟8：熱板加熱溫度60～80℃，使用石英器皿，盛滿8#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟9：重復上述步驟7；

步驟10：熱板加熱溫度40～60℃，使用石英器皿，盛滿9#清洗液，兆聲清洗，2～3次，每次10～15分鐘；

步驟11：重復上述步驟7，使用ZDMAC去膜劑煮15～25分鐘，溫度40～60℃；

步驟12：使用全自動DI沖洗20～40次，再使用不加熱的異丙醇、丙酮浸泡脫水3～5次，使用DI自動沖洗10～15次，用40～45℃熱氮氣吹干。

2.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟1中所述1#清洗液主要成分為鄰苯二甲酸二乙酯，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值為6～9。

3.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟2中所述2#清洗液主要成分為乙酸癸酯和聚乙二醇(PEG)，使用乙二醇作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

4.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟3中所述3#清洗液主要成分為乙酸庚酯和聚乙二醇(PEG)，使用乙二醇作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

5.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟4中所述4#清洗液主要成分為乙酸己酯和辛酮，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

6.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟5中所述5#清洗液主要成分為庚酮和乙酸己酯，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

7.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟6中所述6#清洗液主要成分為乙酸丙酯和DI(去離子水)，使用乙二醇作為增溶劑，PEG600作為親水劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

8.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟7中所述7#清洗液主要為三氯乙烯。

9.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟8中所述8#清洗液主要成分為DI和乙醇，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。

10.根據權利要求1所述的去除高熔點黏附劑的方法，其特征在于，步驟10中所述9#清洗溶劑主要成分為乙醇，使用聚乙二醇(PEG200～700)作為增溶劑，使用稀釋草酸和雙氧水和氨水作為PH調節劑，PH值6～9。