[發明專利]濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法與裝置

無效

• 申請號: 201010221980.X
• 申請日: 2010-07-02
• 公開（公告）號: CN102312204A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 黃昆平
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06;C23C14/58
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：所述裝置至少包括：

腔體；

濺鍍槍，安裝在該腔體內；

復合靶材，設置于該濺鍍槍上，其中該復合靶材包括一主靶材以及多數個小錠，該些小錠的材料是高蒸氣壓材料，其中該高蒸氣壓材料是在1000℃的蒸氣壓大于1×10^-9torr的材料；以及

基材承載臺，相對該復合靶材安裝在該腔體內。

2.如權利要求1所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：該高蒸氣壓材料是選自包括鎂(Mg)、鋅(Zn)、鋰(Li)、錫(Sn)、硒(Se)、硫(S)、鋁(Al)及其組合中的一種成分。

3.如權利要求1所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：該復合靶材中的該些小錠是貼附在該主靶材上。

4.如權利要求1所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：該復合靶材中的該些小錠是鑲在該主靶材中。

5.如權利要求1所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：還包括一金屬網格，設置在該基材承載臺與該復合靶材之間。

6.如權利要求5所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：該金屬網格為平面結構或具多個凸部的結構。

7.如權利要求6所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的裝置，其特征在于：各該凸部對應于各該小錠的位置向該基材承載臺凸出。

8.一種濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：所述方法包括：

提供一濺鍍設備，其內部包括一復合靶材，該復合靶材包括一主靶材以及多數個小錠，該些小錠的材料是高蒸氣壓材料，其中該高蒸氣壓材料是在1000℃的蒸氣壓大于1×10^-9torr的材料；

利用該復合靶材進行濺鍍，以在一基材上形成一鍍膜；以及

對該鍍膜進行退火。

9.如權利要求8所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：該高蒸氣壓材料是選自包括鎂(Mg)、鋅(Zn)、鋰(Li)、錫(Sn)、硒(Se)、硫(S)、鋁(A1)及其組合中的一種成分。

10.如權利要求8所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：該復合靶材中的該些小錠是貼附在該主靶材上。

11.如權利要求8所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：該復合靶材中的該些小錠是鑲在該主靶材中。

12.如權利要求8所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：在利用該復合靶材進行該濺鍍之前，還包括在該復合靶材與一基材承載臺之間設置一金屬網格。

13.如權利要求12所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：該金屬網格為平面結構或具多個凸部的結構。

14.如權利要求13所述的濺鍍含高蒸氣壓材料的鍍膜的方法，其特征在于：各該凸部對應于各該小錠的位置向該基材承載臺凸出。