[發(fā)明專利]多指條形GGNMOS、靜電保護(hù)電路有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010221840.2 | 申請日: | 2010-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN102315217A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 單毅;陳曉杰 | 申請(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/088 | 分類號: | H01L27/088;H01L29/06;H01L27/04 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱蘇華 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 條形 ggnmos 靜電 保護(hù) 電路 | ||
1.一種多指條形GGNMOS,其特征在于,包括:
P型半導(dǎo)體襯底,包括器件區(qū);
形成于器件區(qū)內(nèi)的至少兩個(gè)NMOS晶體管;
位于相鄰NMOS晶體管的漏極之間的半導(dǎo)體襯底內(nèi)的N型連接阱,且所述N型連接阱與其兩側(cè)的漏極連接;
所述N型連接阱的表面區(qū)域內(nèi)形成有N型連接區(qū)。
2.如權(quán)利要求1所述的多指條形GGNMOS,其特征在于,所述N型連接阱兩側(cè)的漏極延伸至N型連接阱內(nèi),與N型連接阱部分重疊。
3.如權(quán)利要求2所述的多指條形GGNMOS,其特征在于,所述N型連接區(qū)與兩側(cè)漏極之間的N型連接阱表面分別形成有偽柵。
4.如權(quán)利要求1所述的多指條形GGNMOS,其特征在于,所述半導(dǎo)體襯底還包括與器件區(qū)相鄰的互連區(qū)。
5.如權(quán)利要求4所述的多指條形GGNMOS,其特征在于,所述N型連接區(qū)與靠近互連區(qū)的NMOS晶體管的漏極的距離大于與遠(yuǎn)離于互連區(qū)的NMOS晶體管的漏極的距離。
6.如權(quán)利要求1所述的多指條形GGNMOS,其特征在于,所述相鄰的NMOS晶體管關(guān)于N型連接阱對稱,且規(guī)格相同。
7.如權(quán)利要求4所述的多指條形GGNMOS,其特征在于,所述互連區(qū)以及各NMOS晶體管的柵極、源極均接地,所述N型連接區(qū)接外部電路。
8.一種靜電保護(hù)電路,包括輸入端、接地端以及至少兩個(gè)位于同一襯底的GGNMOS;其特征在于,
所述襯底以及GGNMOS的源極、柵極均連接至接地端;
所述GGNMOS的漏極分別通過不同的分壓電阻連接至輸入端;
所述分壓電阻為權(quán)利要求1所述N型連接阱內(nèi)N型連接區(qū)與兩側(cè)漏極之間的寄生內(nèi)阻。
9.如權(quán)利要求8所述的靜電保護(hù)電路,其特征在于,所述GGNMOS的規(guī)格相同。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





