[發明專利]桿涂敷裝置及桿涂敷方法

有效

• 申請號: 201010214121.8
• 申請日: 2010-06-24
• 公開（公告）號: CN101934260A
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發明（設計）人: 三田俊哉;橫山廣樹;浜本伸夫
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 朱丹

技術領域

本發明涉及一種桿涂敷裝置及桿涂敷方法，尤其涉及一種用于制造具有適合于液晶顯示裝置的品質的光學膜的涂敷技術。

背景技術

在制造光學補償膜等光學性功能膜的涂敷中，要求均勻且薄層地涂敷涂敷液。然而，在這樣的薄層涂敷中，大多產生縱向條痕或條紋故障，以往研究有各種對策。

例如，為了抑制在涂敷裝置的一次側(薄條行進方向的上游側)具備的液體積存部中產生不規則的渦流，提出過將液體積存部的薄條(帶狀體)的行進方向上的長度設定為10mm以上50mm以下(專利文獻1)。

另外，在桿涂敷裝置中，在相對于桿的一次側的(帶狀體行進方向的上游側)位置設置有堰，該堰用于使涂敷液從液體積存部溢出。但是，在涂敷速度快的系統中，在由從堰溢出的涂敷液與薄條形成的氣液界面中可能由于伴隨空氣(所謂伴隨空氣是指隨著薄條而行進的空氣)的卷入或薄條的顫振而產生紊亂。一次側的該紊亂產生桿的二次側的彎月面的紊亂，由此存在薄條的涂敷面上產生不希望的條痕等問題。

相對于此，在專利文獻2中提出有如下的桿涂敷裝置，其具備防止伴隨氣體被帶入液體積存部的伴隨氣體帶入防止機構。由此，防止由伴隨氣體引起的氣液界面的紊亂，進而解決由于氣液界面的紊亂而產生的條痕等。

專利文獻1：日本特開2003-33702號公報；

專利文獻2：日本特開2002-192050號公報。

然而，在專利文獻1或專利文獻2的桿涂敷中，由于使涂敷液從相對于桿的一次側的液體積存部溢出而向膜涂敷涂敷液，因此存在涂敷膜的寬度方向上的端部的厚度變厚的問題。

發明內容

本發明鑒于這樣的情況而提出，其目的在于提供一種能夠防止涂敷膜的寬度方向的端部的厚度變厚的桿涂敷裝置及桿涂敷方法。

為了完成上述目的，本發明的一方式的桿涂敷裝置其特征在于，具備：桿，其與行進的帶狀體接觸的同時進行旋轉；堰，其相對于所述桿設置在所述帶狀體的行進方向上游側，形成向所述帶狀體及所述桿供給涂敷液的液體積存部；涂敷液減量構件，其設置在所述帶狀體的寬度方向的所述堰的兩外側，刮除涂敷在所述帶狀體的寬度方向兩端部的涂敷液。

通過具備該涂敷液減量構件，能夠防止涂敷膜的厚度在寬度方向的端部變厚。

在上述桿涂敷裝置中，優選所述涂敷液減量構件形成與所述堰的高度大致相同高度的凸部。

通過具有與堰的高度大致相同高度的凸部，能夠遮擋在帶狀體的寬度方向的端部的涂敷液的流動，由于能夠減少該端部的涂敷液，因此能夠防止涂敷膜的厚度在寬度方向的端部變厚。

在上述桿涂敷裝置中，優選所述構件(與堰的高度大致相同高度的凸部)的所述帶狀體的寬度方向的最外部位于比所述帶狀體的寬度靠內側。

若凸部超出帶狀體的外側，則涂敷液從帶狀體的端部飛出，且涂敷液回到帶狀體的背面(涂敷面的相反側的面)，從而污染帶狀體的背面，因此優選構件(比堰的高度高0.1mm以上的凸部)的帶狀體的寬度方向的最外部位于比所述帶狀體的寬度靠內側。

在上述桿涂敷裝置中，優選所述涂敷液減量構件的寬度為0.1mm以上且從所述堰的最外部到所述桿端部的長度以下。

由于涂敷膜在桿的兩端部最厚，因此使凸部的寬度為0.1mm以上且從帶狀體的寬度方向的涂敷液減量構件的最外部到桿的端部的長度以下，能夠有效地刮除涂敷在帶狀體的寬度方向兩端部的涂敷液。

在上述桿涂敷裝置中，優選所述涂敷液減量構件與所述帶狀體的間隙最窄部為0.5mm以上10mm以下。

其原因在于，若涂敷液減量構件與帶狀體的間隙最窄部小于0.5mm，則由于帶狀體的顫振而與桿涂敷裝置接觸的可能性高。另一方面，若比10mm寬，則涂敷液的刮除效果變弱。其中，優選涂敷液減量構件與帶狀體的間隙最窄部為0.5mm以上5mm以下。

在上述桿涂敷裝置的涂敷液減量構件中，優選與所述帶狀體對置的面和所述行進方向的所述上游側的面所成的角度為90°以下。

通過存在本發明的涂敷液減量構件，得到涂敷液的剝離效果，因此不管形狀如何，若上游側的形狀為90°以下，則涂敷液的剝除效果高。

為了完成上述目的，本發明的再一方式的涂敷方法的特征在于，包括：使所述帶狀體在積存有涂敷液的堰的上方行進，將所述涂敷液涂敷到所述帶狀體上的步驟；刮除涂敷在所述帶狀體的寬度方向兩端部的所述涂敷液的步驟；利用桿進行調節，以使所述涂敷的涂敷液成為所希望的厚度的步驟。