[發明專利]桿涂敷裝置及桿涂敷方法

有效

• 申請號: 201010214121.8
• 申請日: 2010-06-24
• 公開（公告）號: CN101934260A
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發明（設計）人: 三田俊哉;橫山廣樹;浜本伸夫
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 朱丹

1.一種桿涂敷裝置，其特征在于，具備：

桿，其與行進的帶狀體接觸的同時進行旋轉；

堰，其相對于所述桿設置在所述帶狀體的行進方向上游側，形成向所述帶狀體及所述桿供給涂敷液的液體積存部；

涂敷液減量構件，其設置在所述帶狀體的寬度方向的所述堰的兩外側，刮除涂敷在所述帶狀體的寬度方向兩端部的涂敷液。

2.根據權利要求1所述的桿涂敷裝置，其特征在于，

所述涂敷液減量構件形成與所述堰的高度大致相同高度的凸部。

3.根據權利要求2所述的桿涂敷裝置，其特征在于，

所述帶狀體的寬度方向的所述涂敷液減量構件的最外部位于比所述帶狀體的寬度靠內側。

4.根據權利要求2或3所述的桿涂敷裝置，其特征在于，

所述涂敷液減量構件的寬度為0.1mm以上且從所述堰的最外部到所述桿端部的長度以下。

5.根據權利要求2或3所述的桿涂敷裝置，其特征在于，

所述涂敷液減量構件與所述帶狀體的間隙最窄部為0.5mm以上10mm以下。

6.根據權利要求2或3所述的桿涂敷裝置，其特征在于，

在所述涂敷液減量構件中，與所述帶狀體對置的面和所述行進方向的所述上游側的面所成的角度為90°以下。

7.一種涂敷方法，其為向行進的帶狀體涂敷涂敷液的方法，其特征在于，包括：

使所述帶狀體在積存有涂敷液的堰的上方行進，將所述涂敷液涂敷到所述帶狀體上的步驟；

刮除涂敷在所述帶狀體的寬度方向兩端部的所述涂敷液的步驟；

利用桿進行調節，以使所述涂敷的涂敷液成為所希望的厚度的步驟。

8.根據權利要求7所述的涂敷方法，其特征在于，

在減少涂敷于所述兩端部的所述涂敷液的量的步驟中，使用設置在所述堰的帶狀體的寬度方向外側，且形成與該堰的高度大致相同高度的凸部的涂敷液減量構件。

9.根據權利要求8所述的涂敷方法，其特征在于，

所述帶狀體的寬度方向的所述涂敷液減量構件的最外部位于比所述帶狀體的寬度靠內側。

10.根據權利要求8或9所述的涂敷方法，其特征在于，

所述涂敷液減量構件的寬度為0.1mm以上且從所述堰的最外部到所述桿端部的長度以下。

11.根據權利要求8或9所述的涂敷方法，其特征在于，

所述涂敷液減量構件與所述帶狀體的間隙最窄部為0.5mm以上10mm以下。

12.根據權利要求8或9所述的涂敷方法，其特征在于，

在所述涂敷液減量構件中，與所述帶狀體對置的面和所述行進方向的所述上游側的面所成的角度為90°以下。

13.根據權利要求7～9中任一項所述的涂敷方法，其特征在于，

所述涂敷液為形成光學薄膜的涂敷液。