[發(fā)明專利]染色體的無痕跡修飾方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010213287.8 | 申請日: | 2010-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN101892221A | 公開(公告)日: | 2010-11-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王德明 | 申請(專利權)人: | 蘇州神洲基因有限公司 |
| 主分類號: | C12N15/09 | 分類號: | C12N15/09;C12N1/21 |
| 代理公司: | 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102 | 代理人: | 陳忠輝 |
| 地址: | 215600 江蘇省蘇州市張家*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 染色體 痕跡 修飾 方法 | ||
1.染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:首先,構建包含陽性篩選標記、反篩選標記、內切核酸酶I-SceI、誘導性啟動子、I-SceI識別位點、與靶染色體核酸序列同源的靶核酸置換序列的重組盒;然后,用電轉化的方法把上述DNA片段輸入包含重組質粒的宿主;接著,通過I-SceI介導的雙鏈斷裂修復現(xiàn)象從所希望的重組體中敲除以下基因序列:陽性篩選標記、可誘導啟動子、I-Scel基因、反篩選標記;最后,在蔗糖培養(yǎng)基上篩選最終重組體。
2.根據(jù)權利要求1所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述重組盒轉化的是Escherichia?coli。
3.根據(jù)權利要求1所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:按以下步驟修飾微生物特定染色體區(qū),
1)準備一個線性DNA片段,包含與λ-red重組有關的可以導入靶向微生物的同源臂B和C,陽性篩選標記,反篩選標記,I-SceI基因,I-SceI識別位點,與同源重組敲除篩選標記有關的可誘導啟動子、同源片段A;
2)導入線性DNA片段到含有權利要求1所述重組盒的微生物,通過λ-Red重組置換位于DNA片段同源臂和與同源臂同源的染色體之間的特定位點;
3)在誘導I-SceI內切核酸酶表達的條件培養(yǎng)基中,培養(yǎng)特定染色體位點置換的微生物,導致雙鏈斷裂,位于同源片段A和與片段A同源的染色體區(qū)之間的同源重組用于敲除篩選性標記,其中同源臂B與染色體的敲除靶點一端的50-500bp同源,同源臂C與另一端的50-500bp同源,同源片段A是連接與同源臂B和同源臂C同源的染色體區(qū)的一端300-500bp的區(qū)域。
4.根據(jù)權利要求3所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述步驟1)和步驟2)重復多次,準備多個不同的線性DNA片段,以修飾微生物的一系列特定染色體區(qū)。
5.根據(jù)權利要求3所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述篩選標記包括陽性篩選標記和陰性篩選標記。
6.根據(jù)權利要求5所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述陽性篩選標記是從包含可視的檢測標記中篩選的,允許重組體在缺乏營養(yǎng)源的培養(yǎng)基中生長,賦予重組體對某種化合物產(chǎn)生抗性。
7.根據(jù)權利要求5所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述陰性篩選標記是一種在底物存在下對細胞有致死作用的標記。
8.根據(jù)權利要求3所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述篩選底物包括基本培養(yǎng)基,缺乏對一個或者多個靶細胞或抗生素必需的一種或多種營養(yǎng)源。
9.根據(jù)權利要求1所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:對靶染色體的修飾包括一次或多次地“插入一個或多個核苷酸到靶細胞基因組”或“從靶細胞基因組中敲除一個或多個核苷酸”或“置換靶細胞基因組中一個或者多個核苷酸”。
10.根據(jù)權利要求9所述的染色體的無痕跡修飾方法,其特征在于:所述靶細胞基因組系指內源基因、內源基因間的核酸序列或非基因核酸序列。
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