[發明專利]卡其色真空鍍膜件及其制備方法

有效

• 申請號: 201010212310.1
• 申請日: 2010-06-29
• 公開（公告）號: CN102312205A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張東旭
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種卡其色真空鍍膜件及其制備方法。

背景技術

真空鍍膜技術是一個非常環保的鍍膜工藝。真空薄膜由于其具有高硬度、高耐磨性、良好的化學穩定性及與基體結合牢固等特點，因此在裝飾性鍍膜領域應用越來越廣。

在裝飾性鍍膜行業，薄膜的顏色是一個非常關鍵的技術指標，但真空鍍膜方法鍍制的薄膜顏色卻非常有限，目前能夠鍍出的膜層顏色主要集中在金色系和黑色系，能夠穩定生產的膜層顏色更是少之又少。因此，與烤漆、陽極處理等成膜工藝相比，真空薄膜顏色不夠豐富，嚴重限制了真空鍍膜工藝在裝飾鍍膜領域的競爭力。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種卡其色真空鍍膜件。

另外，還提供一種上述卡其色真空鍍膜件的制備方法。

一種卡其色真空鍍膜件，包括一基體、一襯底層及一顏色層，該襯底層直接與該基體結合，該顏色層形成于該襯底層的表面，該顏色層呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L^*坐標介于100至60，a^*坐標介于0至2，b^*坐標介于12至17。

一種卡其色真空鍍膜件的制備方法，包括以下步驟：

提供一承鍍基體，并對該基體進行表面去污清洗；

使用一鈦靶，以氮氣為反應氣體，通過磁控濺射鍍膜方法對基體打底，以在基體上形成一襯底層，所用氮氣流量為8～12sccm；

調節所述氮氣流量至20～30sccm，繼續對基體進行鍍膜，以在該襯底層上形成一顏色層，該顏色層呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L^*坐標介于100至60，a^*坐標介于0至2，b^*坐標介于12至17。

相較于現有技術，上述卡其色真空鍍膜件的制備方法，主要通過對反應氣體氮氣的流量控制來改變顏色層的成分，即改變顏色層中氮原子與鈦原子的比例，因而使顏色層呈現所需的色彩。

附圖說明

圖1為本發明較佳實施例的卡其色真空鍍膜件的剖視示意圖。主要元件符號說明

卡其色真空鍍膜件????10

基體????????????????11

襯底層??????????????13

顏色層??????????????15

具體實施方式

本發明的卡其色真空鍍膜件可以為電子裝置外殼，也可以為五金件、金屬衛浴件及建筑件。

請參閱圖1，本發明較佳實施例的卡其色真空鍍膜件10包括一基體11、一襯底層13及一顏色層15。襯底層13直接與基體11結合，顏色層15形成于襯底層13的表面。

基體11可以為金屬、玻璃、陶瓷及塑料等。該襯底層13形成于基體11與顏色層15之間，以接合基體11與顏色層15。襯底層13為一TiN_x層或其它可提供附著效果的材料，其中x表示襯底層中氮原子個數與鈦原子的個數比。襯底層13的厚度大約為0.3～0.5μm。襯底層13以不影響顏色層的顏色的色調為佳，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調。

顏色層15為一TiN_y層，其中y表示顏色層15中氮原子個數與鈦原子的個數比。顏色層15中的氮原子百分含量大于襯底層13中氮原子百分含量，即y＞x。該顏色層15呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L^*坐標可介于100至60，a^*坐標可介于0至2，而b^*坐標可介于12至17，表現為卡其色。顏色層15的厚度大約為0.3～0.5μm。該襯底層13與顏色層15的總體厚度大約為0.6～1μm。

上述卡其色真空鍍膜件10的制備方法主要包括如下步驟：

(1)提供一承鍍基體11，并對基體11進行表面清洗，以除去基體11表面的雜質和油污等，清洗完畢后烘干備用。所述清洗可包括將基體11放入盛裝有乙醇及/或丙酮溶液的超聲波清洗器中進行震動清洗。所述基體11材質可以為金屬、玻璃、陶瓷及塑料等。