[發(fā)明專利]卡其色真空鍍膜件及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010212310.1
• 申請日: 2010-06-29
• 公開（公告）號: CN102312205A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張東旭
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種卡其色真空鍍膜件，包括一基體、一襯底層及一顏色層，該襯底層直接與該基體結(jié)合，該顏色層形成于該襯底層的表面，其特征在于：該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標介于100至60，a^*坐標介于0至2，b^*坐標介于12至17。

2.如權(quán)利要求1所述的卡其色真空鍍膜件，其特征在于：該襯底層為一TiN_x層，該顏色層為一TiN_y層，該顏色層中的氮原子百分含量大于該襯底層中氮原子百分含量，即y＞x。

3.如權(quán)利要求1所述的卡其色真空鍍膜件，其特征在于：該襯底層與顏色層的總體厚度為0.6～1μm，其中該顏色層的厚度為0.3～0.5μm。

4.如權(quán)利要求1所述的卡其色真空鍍膜件，其特征在于：該基體為金屬、玻璃、陶瓷及塑料中的一種。

5.如權(quán)利要求4所述的卡其色真空鍍膜件，其特征在于：該卡其色真空鍍膜件為電子裝置外殼。

6.一種卡其色真空鍍膜件的制備方法，包括以下步驟：

提供一承鍍基體，并對該基體進行表面去污清洗；

使用一鈦靶，以氮氣為反應(yīng)氣體，通過磁控濺射鍍膜方法對基體打底，以在基體上形成一襯底層，所用氮氣流量為8～12sccm；

調(diào)節(jié)所述氮氣流量至20～30sccm，繼續(xù)對基體進行鍍膜，以在該襯底層上形成一顏色層，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標介于100至60，a^*坐標介于0至2，b^*坐標介于12至17。

7.如權(quán)利要求6所述的卡其色真空鍍膜件的制備方法，其特征在于：該襯底層為一TiN_x層，該顏色層為一TiN_y層，該顏色層中的氮原子百分含量大于該襯底層中氮原子百分含量，即y＞x。

8.如權(quán)利要求6所述的卡其色真空鍍膜件的制備方法，其特征在于：形成該襯底層的工藝參數(shù)為：抽真空度為8×10^-3Pa，氬氣流量為400～450sccm，功率為5～20kw，偏壓為-180～-220V，占空比為25～35％，氮氣流量為8～12sccm，鍍膜時間為20～30分鐘。

9.如權(quán)利要求8所述的卡其色真空鍍膜件的制備方法，其特征在于：形成該襯底層的工藝參數(shù)為：抽真空度為8×10^-3Pa，氬氣流量為425sccm，功率為8kw，偏壓為-200V，占空比為30％，氮氣流量為10sccm，鍍膜時間為25分鐘。

10.如權(quán)利要求6所述的卡其色真空鍍膜件的制備方法，其特征在于：形成該顏色層步驟的氮氣流量為24sccm，鍍膜時間為25分鐘。