[發(fā)明專(zhuān)利]硅片去膠裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010209822.2
• 申請(qǐng)日: 2010-06-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102298276A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王磊;景玉鵬
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/42
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/42
• 代理公司: 北京市德權(quán)律師事務(wù)所 11302
• 代理人: 王建國(guó)

1.一種硅片去膠裝置，其特征在于，包括：

去離子水儲(chǔ)罐(1)、CO₂儲(chǔ)氣罐(2)、用于將去離子水和CO₂混合形成混合溶液的混合罐(5)、對(duì)所述混合溶液加熱的熱交換器(7)及用于對(duì)硅片(12)去膠的反應(yīng)腔體(10)；所述去離子水儲(chǔ)罐(1)與CO₂儲(chǔ)氣罐(2)的出口與所述混合罐(5)一端連接，所述混合罐(5)另一端通過(guò)所述熱交換器(7)與所述反應(yīng)腔體(10)入口連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片去膠裝置，其特征在于：

所述去離子水儲(chǔ)罐(1)通過(guò)一平流泵(3)與所述混合罐(5)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片去膠裝置，其特征在于：

所述CO₂儲(chǔ)氣罐(2)通過(guò)一壓力泵Ⅰ(4)與所述混合罐(5)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片去膠裝置，其特征在于：

所述混合罐(5)通過(guò)一溢流閥(6)與所述熱交換器(7)連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的硅片去膠裝置：其特征在于：

所述反應(yīng)腔體(10)內(nèi)設(shè)置有可以旋轉(zhuǎn)的用于放置涂有光刻膠的硅片(12)的托盤(pán)(15)和用于將剝離的光刻膠帶離所述硅片(12)表面的CO₂源(13)；所述熱交換器(7)通過(guò)一噴嘴(11)將含超臨界態(tài)的CO₂和高溫高壓的去離子水的所述混合溶液噴射到所述硅片(12)上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的硅片去膠裝置，其特征在于：

還包括CO₂回收裝置，所述CO₂回收裝置包括壓力泵(14)、過(guò)濾干燥裝置(18)及冷卻器(19)，所述反應(yīng)腔體(10)依次通過(guò)所述壓力泵(14)、所述過(guò)濾干燥裝置(18)及所述冷卻器(19)與所述CO₂儲(chǔ)氣罐(2)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的硅片去膠裝置，其特征在于：

所述反應(yīng)腔體還設(shè)置有溫度傳感器(8)和壓力傳感器(9)。

8.一種硅片去膠方法，其特征在于，包括：

形成液態(tài)CO₂和去離子水的混合溶液；

對(duì)所述混合溶液加熱，使所述混合溶液中的CO₂達(dá)到超臨界態(tài)，使去離子水達(dá)到高溫高壓狀態(tài)；及

使用含超臨界態(tài)的CO₂和高溫高壓的去離子水的所述混合溶液對(duì)硅片進(jìn)行去膠處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，還包括：

對(duì)進(jìn)行去膠處理后的所述混合溶液中所含的CO₂進(jìn)行回收。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其特征在于：

所述高溫為300-700℃，所述高壓為8-20MPa。