[發明專利]對二甲氨基苯甲酸異辛酯(EHA)的合成方法

有效

• 申請號: 201010209076.7
• 申請日: 2010-06-25
• 公開（公告）號: CN101863791A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: 李永芳;陳文;王先文;陳立柱
• 申請（專利權）人: 北京英力精化技術發展有限公司
• 主分類號: C07C229/60
• 分類號: C07C229/60;C07C227/18
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發明領域

本發明涉及化工行業一種重要的紫外光引發劑對二甲氨基苯甲酸異辛酯的合成方法和生產工藝。本發明的方法是以對鹵代苯甲酸為原料，在催化劑存在下經過與二甲胺反應，再與異辛醇反應，然后經減壓蒸餾除去溶劑及異辛醇，得到對二甲氨基苯甲酸異辛酯(EHA)，產品純度大于99％，總收率85％以上。本發明的合成方法具有從基本化工原料出發，無苛刻條件，操作簡單，對環境友好，溶劑易回收套用的等特點，適合應用于工業生產。

發明背景

對二甲氨基苯甲酸酯系列化合物是一類高效的胺促進劑，同自由基(II)型光引發劑一起使用，主要用于紙張、木材、金屬及塑料表面的清漆涂料體系進行紫外固化，也可用于單一或多種單體的紫外光輻射聚合反應，還是性能優良的增感劑，常與硫雜蒽酮類光引發劑、苯乙酮類光引發劑聯合使用，既能促進光引發作用，又可有效消除氧對光引發聚合的干擾作用。

對二甲氨基苯甲酸酯系列化合物，可以做優良的抗紫外線添加劑，廣泛應用于耐水防曬化妝品中，其中包括對二甲氨基苯甲酸異戊酯(IADB)和對二甲氨基苯甲酸異辛酯(EHA，商品名為507)，后者是一種良好的UVB區的紫外線吸收劑，作為防曬劑，在國際上被大量地使用，美國FDA將其列為第一類推薦使用的防曬劑。對二甲氨基苯甲酸酯不僅應用于化妝品領域，也可作為防腐劑使用，如：對二甲氨基苯甲酸甲酯、對二甲氨基苯甲酸丙酯、對二甲氨基苯甲酸正丁酯及其溶液都具有防腐作用。

現有的合成對二甲氨基苯甲酸酯的工藝方法，通常都以對二甲氨基苯甲酸為底物，因此尋找一條適合對二甲氨基苯甲酸工業化生產的合成方法，對于開發對二甲氨基苯甲酸衍生物類系列產品有著十分重要的意義。

目前合成對二甲氨基苯甲酸的主要方法有：(1)對二甲氨基鹵代苯的羧基化(Journal?of?Organic?Chemistry，55(6)，1768-71；1990)；(2)對二甲氨基苯乙酮的鹵仿羧基化；(3)對氨基苯甲酸的氮甲基化(GB2233975；Huaxue?Shiji，25(4)，245-246；2003；Journal?of?Organic?Chemistry，70(7)，2476-2485；2005)；(4)對二甲氨基苯甲醛的直接氧化(Organic?Letters，9(18)，3515-3518；2007；Huaihai?Gongxueyuan?Xuebao，ziran?Kexueban，14(2)，53-55；2005)。方法(1)、(2)和(3)由于原料成本高、毒性較大、操作不安全等因素，不適合大規模工業化生產，其中方法(3)還會產生大量單甲基化的副產物，給產品的分離和純化帶來困難；方法(4)是芳香醛氧化為芳香羧酸的經典方法，但芳香醛的成本較高，且氧化步驟常需用到價格昂貴的硝酸銀以及性質活潑的亞氯酸鈉，不適合大工業生產。

對二甲氨苯甲酸酯制備方法有(I)對二甲氨苯甲酸直接酯化(Journal?of?Organic?Chemistry，70(7)，2476-2485；2005；)；(I?I)對氨苯甲酸酯經甲醛催化氮甲基化(GB?2233975；CN1289764)。方法(I)存在對二甲氨基苯甲酸成本較貴，酯化收率低，酸性廢水量大等缺點。方法(II)存在氮甲基化很難完全，所用甲基化試劑硫酸二甲酯毒性大、酸性廢水量多；用氯甲烷、碘甲烷成本高，兩者同時都存在甲基化過程中酯有部分水解，影響產率缺點。

發明內容

本發明的目的是克服現有合成方法所存在的缺點，提供一種工藝路線短、原料易得、條件相對溫和、操作簡便、三廢少、高收率的對二甲氨基苯甲酸異辛酯(EHA)的合成方法。該方法采用國內易得的對鹵代苯甲酸和二甲胺水溶液做原料，催化劑存在下氨解、再經催化酯化，高收率的合成較高含量的對二甲氨基苯甲酸異辛酯(EHA)。所有的步驟無苛刻條件，操作簡單，對環境友好，符合綠色環保的要求，具有顯著的社會效益和經濟效益，適合工業化生產。

對二甲氨基苯甲酸異辛酯(EHA)的結構式如下：

為實現上述目的，本發明提供的合成方法包括的步驟：其合成步驟為：

X＝Cl，Br

具體操作步驟如下：

步驟一：在溫度為10～150℃的條件下，向對鹵代苯甲酸和二甲胺水溶液的混合體系中加入催化劑Cat-1，并在50～200℃加熱攪拌5～20小時，冷卻至室溫，反應液過濾后，濾液用稀鹽酸調節pH≈4，過濾得到對二甲氨基苯甲酸的固體粗品，經干燥后可直接用于下步反應。