[發明專利]等離子體聯合超聲波處理織物染色工藝及其專用裝置無效
| 申請號: | 201010208789.1 | 申請日: | 2010-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN101880960A | 公開(公告)日: | 2010-11-10 |
| 發明(設計)人: | 莊小雄;方虹天;徐憬 | 申請(專利權)人: | 紹興中紡院江南分院有限公司 |
| 主分類號: | D06M10/02 | 分類號: | D06M10/02;D06M14/18;D06L1/12;D06P5/20 |
| 代理公司: | 紹興市越興專利事務所 33220 | 代理人: | 方劍宏 |
| 地址: | 312000 浙江省紹興市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 聯合 超聲波 處理 織物 染色 工藝 及其 專用 裝置 | ||
技術領域:
本發明涉及紡織品染整工藝領域,具體是涉及一種用低溫常壓等離子體聯合超聲波處理織物染色工藝,以及一種低溫常壓等離子體聯合超聲波處理織物染色的專用裝置。
背景技術:
低溫等離子體接枝處理是通過將織物,(主要指結晶區較大,上染率低的纖維織成的織物,如苧麻織物等)在常壓空氣中進行等離子體處理,通過等離子體產生的高能粒子轟擊織物表面,使織物表面大分子的某些化學鍵發生斷裂產生自由基,引入某些化合物單體與自由基進行反應,實現在大分子上接枝某些化合物單體的一種方法。
等離子體對織物進行處理,使其接枝某些特定化合物單體的研究已有一些報道。與本發明相關的專利主要有:中國專利公開號CN101148821,中國專利公開號CN101092793等。目前等離子體接枝處理織物后的染色工藝仍與常規染麻工藝相似,雖然能提高織物的上染率及某些其他性能,但是仍然無法避免在染整工序中產生較多污染物及能源浪費。
不過對于高結晶區的纖維,采用常規等離子體接枝處理后,其染色上染率仍然較低,且污染和能耗問題較為嚴重。
有基于此,作出本發明。
發明內容:
本發明的目的之一是克服現有技術中存在的不足,提供一種上染率高、染色污染小、節能環保的等離子體聯合超聲波處理織物染色工藝。
本發明的另一目的是提供一種實現上染率高、染色污染小、節能環保的等離子體聯合超聲波處理織物染色專用裝置。
本發明采取的技術方案如下,一種等離子體聯合超聲波處理織物染色工藝,包括以下步驟:
a、將織物坯布以5~80m/min速度通過低溫常壓等離子體設備,進行等離子體放電處理,在進行等離子體放電處理前,根據坯布的潮濕程度進行紅外烘干,烘干溫度為100℃~170℃;等離子體的放電功率為500W~100KW;放電處理時間為10S~120S;
所述坯布通過低溫常壓等離子體處理時,采用以下工藝參數,可以獲得最佳的處理效果,具體是指更高的上染率及更低的污染和能耗,其中:低溫常壓等離子體設備速度以30~65m/min為最佳;烘干溫度以110℃~150℃為最佳;等離子體的放電功率以15KW~60KW為最佳;放電處理時間以20S~45S為最佳。
b、將經等離子體處理過的織物同步浸入接枝槽,進行接枝反應:接枝反應時間為1min~2h;接枝反應溫度為10℃~150℃;接枝單體濃度為5%~60%;
接枝反應中,采用以下工藝參數可有效提高織物上染率:所述接枝反應時間以10min~1h為較佳,最佳為30min~1h;接枝反應溫度以25℃~80℃為較佳,最佳為50℃~75℃;接枝單體選擇能改善織物理化性能的單體,優選采用丙烯酸類及其衍生物或混合物,接枝單體濃度以15%~50%為較佳,最佳為20%~40%。
c、將經接枝反應處理的織物進行水洗,然后放入裝有超聲波發生器的染色浴缸,進行染色處理;水洗溫度為30℃~80℃;水洗次數1~4次;超聲波功率為300w~1000w,頻率為10KHz~50KHz;染料用量染淺色為0.2%~2%(o.w.f.),染深色為2%~5%(o.w.f.);染色溫度為30℃~70℃;染色時間為25min~60min。
染色工藝中,采用以下工藝參數可有效提高織物上染率,并降低污染和能耗:所述水洗溫度以45℃~60℃為最佳;水洗次數以3次為最佳;超聲波功率以450w~650w為最佳,頻率以25KHz~45KHz為最佳;染料用量染淺色以0.5%~1%(o.w.f.)為最佳,染深色以2.5%~4%(o.w.f.)為優;染色溫度以45℃~60℃為最佳;染色時間以30min~50min為最佳。
d、染后織物進行皂洗、水洗、烘干。此工藝與常規工藝相同,此處不復述。
本發明的另一方面目的是提供一種等離子體聯合超聲波處理織物染色的專用設備,其特征在于:包括低溫常壓等離子體設備、接枝反應設備、超聲波染色設備、水洗槽及控制系統,其中:低溫常壓等離子體設備、接枝反應設備、水洗槽、超聲波染色設備之間依次順序連接,控制系統設置有兩組,一組控制系統與低溫常壓等離子體設備相連,另一組控制系統與超聲波染色設備相連。
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