[發(fā)明專利]一種大尺寸菲林母版設(shè)計(jì)及其組合方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010203936.6 | 申請(qǐng)日: | 2010-06-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101846878A | 公開(公告)日: | 2010-09-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 薄紅志;王勇;劉敏敏;陳富貴;王鵬年 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/14 | 分類號(hào): | G03F1/14 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 徐宏;吳彥峰 |
| 地址: | 621000 四川省綿陽市*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 尺寸 母版 設(shè)計(jì) 及其 組合 方法 | ||
1.一種大尺寸菲林母版設(shè)計(jì),包含曝光用間隙窗口和對(duì)位標(biāo)記,其特征在于,還包含根據(jù)所述大尺寸菲林母版裁剪而成的小尺寸菲林母版和分別在各個(gè)所述小尺寸菲林母版上用以對(duì)位組合所述小尺寸菲林母版的互補(bǔ)標(biāo)記。
2.如權(quán)利要求1所述的大尺寸菲林母版設(shè)計(jì),其特征在于,所述大尺寸菲林母版由多個(gè)面取組成,其中各面取之間設(shè)計(jì)有透光分界線。
3.如權(quán)利要求1所述的大尺寸菲林母版設(shè)計(jì),其特征在于,所述互補(bǔ)標(biāo)記包含互補(bǔ)的黑十字標(biāo)記和白十字標(biāo)記。
4.如權(quán)利要求2所述的大尺寸菲林母版設(shè)計(jì),其特征在于,所述黑十字標(biāo)記包含由遮擋紫外線的黑色乳劑覆蓋的十字標(biāo)記,且所述白十字標(biāo)記包含透光的十字標(biāo)記。
5.如權(quán)利要求2所述的大尺寸菲林母版設(shè)計(jì),其特征在于,所述互補(bǔ)標(biāo)記的尺寸是總長為10mm,相關(guān)十字的條寬為1mm。
6.如權(quán)利要求1所述的組合菲林母版設(shè)計(jì),其特征在于,所述大尺寸母版的尺寸誤差要求是300~500μm。
7.一種組合權(quán)利要求1所述大尺寸菲林母版的方法,其特征在于:
(1)裁剪組合大尺寸菲林母版所需的小尺寸菲林母版;
(2)在背光燈照明下,對(duì)位所述小尺寸菲林母版上的互補(bǔ)標(biāo)記直至其組合良好;
(3)在完成所述互補(bǔ)標(biāo)記對(duì)位后用透光膠帶將對(duì)位處固定;
(4)將組合而成的大尺寸菲林母版翻面,在所述小尺寸菲林母版的組合處沿著各面取的寬或長用透光膠帶固定;
(5)將組合而成的所述大尺寸菲林母版再次翻面,去掉步驟(3)中所用的透光膠帶,再在所述小尺寸菲林母版的組合處沿著各面取的寬或長用透光膠帶固定;
(6)使用圖形測(cè)量機(jī)測(cè)定組合而成的所述大尺寸菲林母版的圖形尺寸;
(7)在背光燈照明下,使用黑色油性筆涂抹、修復(fù)所述大尺寸菲林母版的乳劑面上的大缺陷;
(8)取用遮擋紫外線膜,將其裁剪成尺寸比所述菲林母版單面取圖形尺寸的長、寬各小5~10mm,裁剪數(shù)量與所述大尺寸菲林母版面取數(shù)相同;
(9)除去所述大尺寸菲林母版和各所述遮擋紫外線膜上的異物及靜電;
(10)將各所述遮擋紫外線膜以乳劑面平鋪在所述大尺寸菲林母版各個(gè)面取的非乳劑面上,并使各所述遮擋紫外線膜位于單面取圖形的中央,用除靜電毛刷將所述遮擋紫外線膜掃平貼緊,接著用透光膠帶沿所述遮擋紫外線膜各邊緣依次無氣泡粘貼牢固;以及
(11)在背光燈照明下,使用所述黑色油性筆涂抹、修復(fù)所述大尺寸菲林母版上所述遮擋紫外線膜覆蓋區(qū)域之外的區(qū)域的缺陷。
8.如權(quán)利要求5所述的組合方法,其特征在于,步驟(6)中如果測(cè)量得出的尺寸超過工藝誤差要求,則去掉所述透光膠帶,重新組合直至滿足工藝要求。
9.如權(quán)利要求5所述的組合方法,其特征在于,步驟(11)中在使用所述黑色油性筆涂抹、修復(fù)所述區(qū)域的缺陷時(shí),只涂抹、修復(fù)先前由黑色乳劑覆蓋的區(qū)域的缺陷。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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