[發明專利]內層基板用曝光裝置以及基板和掩膜的剝離方法

有效

• 申請號: 201010202930.7
• 申請日: 2010-06-11
• 公開（公告）號: CN101930182A
• 公開（公告）日: 2010-12-29
• 發明（設計）人: 猿渡義德
• 申請（專利權）人: 豐和工業株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/36
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張斯盾

技術領域

本發明涉及使掩膜緊貼內層基板并進行曝光的工序中使用的內層基板用曝光裝置以及該曝光裝置中的基板和掩膜的剝離方法。

背景技術

內層基板用曝光裝置以下述的方式構成，即，在組裝到曝光平臺上的曝光掩膜保持板上設定一個曝光掩膜，并且在組裝到配置在其上方的上框上的曝光掩膜保持板上設定另一個曝光掩膜，將基板配置在兩個曝光掩膜之間，由配置在曝光掩膜保持板的下方以及上框的上方的UV照射裝置同時對基板的表里進行曝光。

簡單說明該內層基板用曝光裝置的以往的曝光工序，在投入輸送器上事先進行了相對對位的基板由投入承載器的吸附墊吸附，向曝光平臺上(下曝光掩膜保持板上)運送。于是，載置了基板的曝光平臺上升，緊貼上框，進行抽真空，謀求基板和上下曝光掩膜的緊貼。此后，進行曝光，在曝光結束后，曝光平臺下降，排出承載器動作，進行基板的排出。

在這樣的內層基板用曝光裝置中，在進行曝光后的基板排出時，需要進行真空緊貼的基板和曝光掩膜的揭離操作，將設置在上框上的曝光掩膜和基板揭離的操作，例如如專利文獻1公開的那樣，由躍出銷進行，設置在下側的曝光掩膜和基板的揭離如專利文獻2公開的那樣，通過鼓風進行。

在先技術文獻

專利文獻1：日本特開2006-32662號公報

專利文獻2：日本特開2001-215716號公報

如上所述，由于基板和曝光掩膜因抽真空而緊貼，所以，需要在曝光結束后將兩者迅速揭離的工序。但是，在像內層基板這樣，尤其是基板薄、柔軟的情況下，由于基板撓曲，僅在進行基于躍出銷或鼓風的揭離時，力被釋放，難以迅速剝離基板整體，揭離需要時間。

因此，本發明鑒于這樣的問題，是特別解決內層基板用曝光裝置中的上述問題發明，其目的在于，提供具備能夠盡快且切實地使基板從曝光掩膜剝離的功能的內層基板用曝光裝置以及能夠盡快且切實地使基板從曝光掩膜剝離的基板和曝光掩膜的剝離方法。

發明內容

為解決上述課題，第一發明是一種內層基板用曝光裝置，是在曝光平臺上和配設在該曝光平臺的上方的上框上分別配置曝光掩膜，能夠將規定的圖案曝光在配置在兩者之間的基板的兩面的內層基板用曝光裝置，其特征在于，

在上述曝光平臺和上述上框這兩者上具備進行突出動作，將上述基板向從上述曝光掩膜剝下的方向推壓的推進器，并在上述推進器前端部具備相對于上述基板和上述曝光掩膜之間噴出氣體的噴嘴，

上述噴嘴連接于與上述推進器的突出動作相吻合地使氣體噴出的氣體供給構件。

根據該結構，因為在推進器將基板向從曝光掩膜剝下的方向推壓的基礎上，使氣體噴出，強制地使之剝離，所以，即使在基板薄、容易撓曲的情況下，也能夠迅速地將基板從曝光掩膜剝下。因此，能夠在短時間解除基板和曝光掩膜之間的負壓，能夠縮短曝光裝置的曝光周期。

第二發明是在第一發明的結構中，其特征在于，上述推進器設置在推壓上述基板的端部的部位，上述噴嘴以向作為剝離對象的基板的中央噴出氣體的方式形成在推進器前端部。

根據該結構，因為從噴嘴噴出的氣體從基板的端部向中央部噴射，所以，更容易剝下。

第三發明是在第一或第二發明的結構中，其特征在于，設置在上述曝光平臺上的推進器的噴嘴在推進器為沒入狀態，也處于與曝光平臺上連通的狀態，并且，連接有在上述推進器為沒入狀態時，從上述噴嘴吸引空氣的空氣吸引構件。

根據該結構，因為推進器的噴嘴在氣體噴出進行的基板的剝離操作的基礎上，還吸引空氣，進行基板的緊貼，所以，能夠迅速地實施基板的揭離和緊貼這兩者。因此，能夠進一步縮短曝光裝置的曝光周期，能夠通過使推進器具備多種功能來抑制曝光平臺的成本。

第四發明是在第一至第三發明的任一項發明的結構中，其特征在于，在上述氣體供給構件和上述噴嘴之間，設置生成具有除靜電作用的離子化氣體的離子發生器，從上述噴嘴噴出的氣體具有除靜電作用。

根據該結構，因為從噴嘴噴出的氣體具有除靜電作用，所以，能夠除去在曝光掩膜和基板之間帶電的靜電，兩者更容易剝下，此外，還能夠防止靜電造成的塵土等的附著。