[發明專利]內層基板用曝光裝置以及基板和掩膜的剝離方法

有效

• 申請號: 201010202930.7
• 申請日: 2010-06-11
• 公開（公告）號: CN101930182A
• 公開（公告）日: 2010-12-29
• 發明（設計）人: 猿渡義德
• 申請（專利權）人: 豐和工業株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/36
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張斯盾

1.一種內層基板用曝光裝置，是在曝光平臺上和配設在該曝光平臺的上方的上框上分別配置曝光掩膜，能夠將規定的圖案曝光在配置在兩者之間的基板的兩面的內層基板用曝光裝置，其特征在于，

在上述曝光平臺和上述上框這兩者上具備進行突出動作，將上述基板向從上述曝光掩膜剝下的方向推壓的推進器，并在上述推進器前端部具備相對于上述基板和上述曝光掩膜之間噴出氣體的噴嘴，

上述噴嘴連接于與上述推進器的突出動作相吻合地使氣體噴出的氣體供給構件。

2.如權利要求1所述的內層基板用曝光裝置，其特征在于，上述推進器設置在推壓上述基板的端部的部位，上述噴嘴以向作為剝離對象的基板的中央噴出氣體的方式形成在推進器前端部。

3.如權利要求1或2所述的內層基板用曝光裝置，其特征在于，設置在上述曝光平臺上的推進器的噴嘴在推進器為沒入狀態，也處于與曝光平臺上連通的狀態，并且，連接有在上述推進器為沒入狀態時，從上述噴嘴吸引空氣的空氣吸引構件。

4.如權利要求1或2所述的內層基板曝光裝置，其特征在于，在上述氣體供給構件和上述噴嘴之間，設置生成具有除靜電作用的離子化氣體的離子發生器，從上述噴嘴噴出的氣體具有除靜電作用。

5.如權利要求3所述的內層基板曝光裝置，其特征在于，在上述氣體供給構件和上述噴嘴之間，設置生成具有除靜電作用的離子化氣體的離子發生器，從上述噴嘴噴出的氣體具有除靜電作用。

6.一種基板和曝光掩膜的剝離方法，所述基板和曝光掩膜的剝離方法是在曝光平臺和配設在曝光平臺的上方的上框的至少任意一個上配置曝光掩膜，由上述曝光平臺和上述上框夾入基板并進行曝光的曝光裝置中，為了將上述基板從上述曝光掩膜剝下，在上述曝光平臺和上述上框的至少任意一個上，通過上述曝光掩膜，設置向基板方向進行突出動作的推進器，使上述推進器突出，上推上述基板的一端，其特征在于，

在上述推進器上設置向上述基板和上述曝光掩膜之間噴出氣體的噴嘴，一面由上述推進器上推上述基板，一面使氣體從上述噴嘴噴出，促進剝離。

7.如權利要求6所述的基板和曝光掩膜的剝離方法，其特征在于，從上述噴嘴噴出的氣體是發揮除去在上述基板和上述曝光掩膜之間產生的靜電的作用的離子化的氣體。