[發(fā)明專利]太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置及其鍍膜工藝無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010199010.4 | 申請(qǐng)日: | 2010-06-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101824604A | 公開(公告)日: | 2010-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王孝星;許維華;孔祥秋;肖成珍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 皇明太陽(yáng)能股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56;C23C14/24 |
| 代理公司: | 濟(jì)南圣達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 37221 | 代理人: | 王吉勇 |
| 地址: | 253000 *** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽(yáng)能 熱管 玻璃管 內(nèi)壁 連續(xù) 鍍膜 裝置 及其 工藝 | ||
1.一種太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置,包括抽真空裝置,其特征在于:抽真空裝置與外玻璃管的管口端相連,外玻璃管的圓頭端設(shè)有玻璃管支撐裝置,外玻璃管的下部設(shè)有與其相連的可移動(dòng)高頻裝置,外玻璃管內(nèi)設(shè)有與高頻裝置相對(duì)應(yīng)的鍍膜裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述抽真空裝置通過其上的玻璃管鎖緊裝置與外玻璃管的管口端相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述高頻裝置設(shè)置于其下部的移動(dòng)拖車上,移動(dòng)拖車通過線路與控制系統(tǒng)相連,高頻裝置的上表面固定有永磁體固定托架和至少一個(gè)感應(yīng)線圈,永磁體固定托架上面設(shè)有至少一個(gè)永磁體,永磁體緊貼于外玻璃管外壁下部,感應(yīng)線圈套在外玻璃管外壁上,且永磁體的上表面、玻璃管的外壁下部最低點(diǎn)和感應(yīng)線圈內(nèi)圈水平最低點(diǎn)在同一水平面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述感應(yīng)線圈為圓形或半圓形結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述鍍膜裝置包括蒸發(fā)舟,蒸發(fā)舟與高頻裝置上的感應(yīng)線圈相對(duì)應(yīng),蒸發(fā)舟的開口與需要鍍膜的外玻璃管內(nèi)壁區(qū)域相對(duì)應(yīng),蒸發(fā)舟設(shè)置于槽型體中,槽型體的兩端設(shè)有圓形擋板,槽型體的底部成圓弧形,其中一擋板外側(cè)與一拖動(dòng)桿焊接,拖動(dòng)桿的另一端設(shè)有磁力牽引模塊,磁力牽引模塊與高頻裝置上的永磁體相對(duì)應(yīng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能集熱管外玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述玻璃管支撐裝置為一倒L形支撐桿。
7.一種利用太陽(yáng)能集熱管的玻璃管內(nèi)壁連續(xù)鍍膜裝置的鍍膜工藝,其特征在于包括以下步驟:
1)將所要蒸鍍的材料放進(jìn)鍍膜裝置的蒸發(fā)舟內(nèi);
2)將洗凈的外玻璃管圓頭端放置到玻璃管支撐裝置上面,將裝配好材料的鍍膜裝置裝進(jìn)外玻璃管內(nèi),使鍍膜裝置的磁力牽引模塊與高頻裝置的永磁體上下位置一致,外玻璃管的管口端插入抽真空裝置的玻璃管鎖緊裝置鎖緊;
3)打開抽真空裝置,對(duì)外玻璃管的內(nèi)腔進(jìn)行排氣處理,真空度達(dá)到5×10-3pa;
4)當(dāng)真空度達(dá)到設(shè)計(jì)要求時(shí),開啟高頻裝置,通過感應(yīng)線圈對(duì)蒸發(fā)舟加熱,同時(shí)開啟移動(dòng)拖車控制系統(tǒng),拖動(dòng)高頻裝置和鍍膜裝置沿外玻璃管的軸向做往復(fù)運(yùn)動(dòng);
5)鍍膜裝置和高頻裝置同步運(yùn)動(dòng),感應(yīng)線圈產(chǎn)生的高頻磁場(chǎng)使蒸發(fā)舟內(nèi)的蒸鍍物料產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失升溫,直至氣化蒸發(fā),蒸鍍物料被蒸鍍到擋板未遮擋的外玻璃管需要鍍膜區(qū)域的內(nèi)壁上,冷卻后黏附于外玻璃管需要鍍膜區(qū)域的內(nèi)壁上,沉積形成反射膜層;
6)待整支外玻璃管需要鍍膜區(qū)域內(nèi)壁反射膜層鍍制完畢后,關(guān)閉高頻裝置停止加熱,移動(dòng)移動(dòng)拖車將鍍膜裝置拖動(dòng)至非鍍膜區(qū)冷卻;
7)待鍍膜裝置冷卻到200-250℃,關(guān)閉抽真空裝置,向外玻璃管內(nèi)充空氣,當(dāng)氣壓達(dá)到一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓后,將玻璃管鎖緊裝置松開,將外玻璃管和鍍膜裝置從抽真空裝置上卸載下來(lái),隨后用手將靠近外玻璃管管口端的鍍膜裝置取出,即完成蒸鍍操作。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





