[發(fā)明專利]存儲器元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010198452.7 | 申請日: | 2010-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN101989604A | 公開(公告)日: | 2011-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 廖忠志 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/11 | 分類號: | H01L27/11;H01L23/528 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 姜燕;邢雪紅 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 存儲器 元件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體元件,尤其涉及用于存儲器單元,特別是靜態(tài)隨機存取存儲器單元的結(jié)構(gòu)及布局設(shè)計。
背景技術(shù)
靜態(tài)隨機存取存儲器(SRAM)廣泛地用于集成電路。嵌入式靜態(tài)隨機存取存儲器(embedded?SRAM)特別常用于高速通信(high?speed?communication)、圖像處理、及系統(tǒng)單芯片(system?on?chip,SOC)的應(yīng)用。靜態(tài)隨機存取存儲器單元(SRAM?cells)具有不需更新(refresh)便能保存數(shù)據(jù)的優(yōu)點。一般,SRAM單元包括兩個傳輸柵晶體管(pass-gate?transistors),通過傳輸柵晶體管可自SRAM單元讀取位(bit),或?qū)⑽粚懭隨RAM單元。這種形式的SRAM單元稱為單端口(single?port)SRAM單元。另有一種形式的SRAM單元稱作雙端口(dual?port)SRAM單元,其包括四個傳輸柵晶體管。
圖1顯示一種公知的八晶體管雙端口SRAM單元,其包括上拉晶體管PU-1與PU-2及下拉晶體管PD-1與PD-2。傳輸柵晶體管PG-1與PG-3形成雙端口SRAM單元的第一端口(port?A)。傳輸柵晶體管PG-2與PG-4形成雙端口SRAM單元的第二端口(port?B)。傳輸柵晶體管PG-1與PG-3的柵極由字線port-A?WL控制,而傳輸柵晶體管PG-2與PG-4由字線port-B?WL控制。由上拉晶體管PU-1與PU-2及下拉晶體管PD-1與PD-2所形成的閂(latch)存儲一位(bit)。所存儲的位可通過第一端口(port?A)使用位線port-A?BL及port-ABLB而讀取,或者可通過第二端口(port?B)使用位線port-B?BL及port-B?BLB而讀取。相反地,位可通過第一端口(port?A)或第二端口(port?B)寫入SRAM單元。
由于具有雙端口,存儲于SRAM單元的位可同時自第一端口(port?A)及第二端口(port?B)讀取。如此,可允許不同應(yīng)用平行運作(parallel?operation)。另外,假如一第一SRAM單元與一第二SRAM單元位于相同的列(column)或相同的行(row),對于第一SRAM單元的讀取運作也可與對第二SRAM單元的寫入運作同時進行。
照例,為了支援平行運作,其中兩端口可同時處于“開啟(on)”狀態(tài),下拉晶體管PD-1與PD-2均需承受兩次每一傳輸柵晶體管PG-1至PG-4的驅(qū)動電流(drive?current)。因此,在公知設(shè)計中,下拉晶體管PD-1與PD-2設(shè)計成傳輸柵晶體管PG-1至PG-4的兩倍寬。一般,會使用L型或T型的有源區(qū)來提供此不均勻的元件尺寸。圖2顯示在一常見有源區(qū)中,晶體管PG-1及PD-1的公知布局。點狀區(qū)域是一有源區(qū),而顏色較暗區(qū)是多晶硅柵極線(gate?polysilicon?lines)。有源區(qū)是L型,具有用以形成下拉晶體管PD-1的寬部分,其寬度為窄部分的兩倍或更寬,窄部分用以形成傳輸柵晶體管PG-1。由于光學(xué)效應(yīng),寬部分與窄部分之間的交叉區(qū)I是圓的。假如發(fā)生對準誤差,而傳輸柵晶體管PG-1的多晶硅柵極向上移,傳輸柵晶體管PG-1的實際柵極寬度將大于需求寬度。因此,傳輸柵晶體管PG-1與傳輸柵晶體管PG-2至PG-4之間會發(fā)生不協(xié)調(diào)(mismatching),其接著將影響SRAM單元的效能。
另一附加問題是交叉區(qū)I處的電流擁擠效應(yīng)(current?crowding)。在交叉區(qū)I中,電流并非均勻分布。因此,下拉晶體管PD-1與PD-2的一些部分可能具有較其他部分高的電流密度。結(jié)漏電流(junction?leakage)也是一個問題。
因此,業(yè)界急需改良的SRAM單元,其可合并雙端口以具備與平行運作有關(guān)的優(yōu)點。
發(fā)明內(nèi)容
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





