[發(fā)明專利]記錄設(shè)備和記錄位置調(diào)整方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010197099.0 | 申請日: | 2010-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN101905570A | 公開(公告)日: | 2010-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 筑間聰行;高橋喜一郎;枝村哲也;田中宏和;中野孝俊;山本和歌子 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/51 | 分類號: | B41J2/51;B41J2/21 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 設(shè)備 位置 調(diào)整 方法 | ||
1.一種記錄設(shè)備,其使包括第一排出口陣列和第二排出口陣列的記錄頭沿移動方向移動,并使輸送單元沿與所述移動方向不同的輸送方向輸送記錄介質(zhì),從而在所述記錄介質(zhì)上記錄圖像,所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列中配置有用于排出墨的多個排出口,所述記錄設(shè)備包括:
控制器,用于使所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列在所述記錄介質(zhì)上記錄用于獲取所述第一排出口陣列的第一記錄位置和所述第二排出口陣列的第二記錄位置之間在所述輸送方向上的偏移量的多個圖案;
獲取單元,用于基于所述第一記錄位置和所述第二記錄位置之間在所述輸送方向上的偏移量,獲取所述第一記錄位置相對于所述移動方向的傾斜量;以及
校正單元,用于基于所獲取到的傾斜量對所述第一記錄位置相對于所述移動方向的傾斜進(jìn)行校正,
其中,所述控制器在不輸送所述記錄介質(zhì)的情況下,使所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列記錄所述多個圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述控制器使所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列在所述記錄頭的一次移動中記錄所述多個圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述校正單元基于所獲取到的傾斜量對所述第二記錄位置相對于所述移動方向的傾斜進(jìn)行校正。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列安裝在所述記錄頭的同一基片上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述記錄頭具有包括所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列的多個排出口陣列,以及
所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列是所述多個排出口陣列中在所述移動方向上的最外側(cè)的排出口陣列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述多個排出口陣列安裝在所述記錄頭的同一基片上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述校正單元基于所獲取到的傾斜量,對所述多個排出口陣列各自的記錄位置相對于所述移動方向的傾斜進(jìn)行校正。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列在所述輸送方向上偏移。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,還包括:
光學(xué)傳感器,用于讀取記錄在所述記錄介質(zhì)上的多個圖案。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述控制器固定所述第一排出口陣列中要使用的排出口,并且使所述第二排出口陣列中要使用的排出口針對各圖案而不同,從而記錄光學(xué)濃度不同的多個圖案。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄設(shè)備,其特征在于,所述控制器固定所述第一排出口陣列中要使用的排出口,并且使所述第二排出口陣列中要使用的排出口針對各圖案而不同,從而記錄兩條線之間在所述輸送方向上的偏移量不同的多個圖案。
12.一種記錄設(shè)備的記錄位置調(diào)整方法,所述記錄設(shè)備使包括第一排出口陣列和第二排出口陣列的記錄頭沿移動方向移動,并使輸送單元沿與所述移動方向不同的輸送方向輸送記錄介質(zhì),從而在所述記錄介質(zhì)上記錄圖像,所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列中配置有用于排出墨的多個排出口,所述記錄位置調(diào)整方法包括以下步驟:
在所述記錄介質(zhì)上記錄用于獲取所述第一排出口陣列的第一記錄位置和所述第二排出口陣列的第二記錄位置之間在所述輸送方向上的偏移量的多個圖案;
基于所述第一記錄位置和所述第二記錄位置之間在所述輸送方向上的偏移量,獲取所述第一記錄位置相對于所述移動方向的傾斜量;以及
基于所獲取到的傾斜量對所述第一記錄位置相對于所述移動方向的傾斜進(jìn)行校正,
其中,通過在不輸送所述記錄介質(zhì)的情況下使用所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列,來記錄所述多個圖案。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的記錄位置調(diào)整方法,其特征在于,在所述記錄頭的一次移動中記錄所述多個圖案。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的記錄位置調(diào)整方法,其特征在于,還包括:
基于所獲取到的傾斜量對所述第二記錄位置相對于所述移動方向的傾斜進(jìn)行校正。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于佳能株式會社,未經(jīng)佳能株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010197099.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
B41J 打字機(jī);選擇性印刷機(jī)構(gòu),即不用印版的印刷機(jī)構(gòu);排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)
- 色相調(diào)整系統(tǒng)及其調(diào)整方法
- 調(diào)整設(shè)備和調(diào)整方法
- 踏板調(diào)整結(jié)構(gòu)及調(diào)整步態(tài)的調(diào)整方法
- 立體深度調(diào)整和焦點(diǎn)調(diào)整
- 調(diào)整裝置及其調(diào)整方法
- 噴嘴調(diào)整工具及調(diào)整方法
- 調(diào)整系統(tǒng)及調(diào)整方法
- 調(diào)整裝置以及調(diào)整方法
- 環(huán)境調(diào)整系統(tǒng)、環(huán)境調(diào)整方法及環(huán)境調(diào)整程序
- 功率調(diào)整器(調(diào)整)





