[發(fā)明專(zhuān)利]記錄設(shè)備和記錄位置調(diào)整方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010197099.0 | 申請(qǐng)日: | 2010-06-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101905570A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 筑間聰行;高橋喜一郎;枝村哲也;田中宏和;中野孝俊;山本和歌子 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B41J2/51 | 分類(lèi)號(hào): | B41J2/51;B41J2/21 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 設(shè)備 位置 調(diào)整 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及從記錄頭排出墨以記錄圖像的記錄設(shè)備和用于對(duì)該記錄設(shè)備中的記錄位置進(jìn)行調(diào)整的方法。
背景技術(shù)
在噴墨記錄設(shè)備中,由于記錄頭安裝誤差等原因,由記錄頭的同一排出口陣列記錄的點(diǎn)的位置(記錄位置)可能相對(duì)于記錄頭的移動(dòng)方向傾斜。日本特開(kāi)2007-038649號(hào)公報(bào)公開(kāi)了,在記錄介質(zhì)上記錄用于檢測(cè)記錄位置的傾斜程度(還被稱(chēng)為傾斜量)的測(cè)試圖案,從而對(duì)要由同一排出口陣列記錄的點(diǎn)的傾斜進(jìn)行校正。
然而,在日本特開(kāi)2007-038649號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的技術(shù)中,當(dāng)記錄用于檢測(cè)傾斜量的測(cè)試圖案時(shí),需要輸送記錄介質(zhì)。因而,可能存在如下的情形:輸送記錄介質(zhì)時(shí)的輸送誤差影響測(cè)試圖案中的點(diǎn)的記錄位置,因此不能夠精確地檢測(cè)傾斜量。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,一種記錄設(shè)備使包括第一排出口陣列和第二排出口陣列的記錄頭沿移動(dòng)方向移動(dòng),并使輸送單元沿與所述移動(dòng)方向不同的輸送方向輸送記錄介質(zhì),從而在所述記錄介質(zhì)上記錄圖像,其中,所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列中配置有用于排出墨的多個(gè)排出口。所述記錄設(shè)備包括:控制器,用于使所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列在所述記錄介質(zhì)上記錄用于獲取所述第一排出口陣列的第一記錄位置和所述第二排出口陣列的第二記錄位置之間在所述輸送方向上的偏移量的多個(gè)圖案;獲取單元,用于基于所述第一記錄位置和所述第二記錄位置之間在所述輸送方向上的偏移量,獲取所述第一記錄位置相對(duì)于所述移動(dòng)方向的傾斜量;以及校正單元,用于基于所獲取到的傾斜量對(duì)所述第一記錄位置相對(duì)于所述移動(dòng)方向的傾斜進(jìn)行校正,其中,所述控制器在不輸送所述記錄介質(zhì)的情況下,使所述第一排出口陣列和所述第二排出口陣列記錄所述多個(gè)圖案。
根據(jù)以下參考附圖對(duì)典型實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明,本發(fā)明的其它特征和方面將變得清楚。
附圖說(shuō)明
包含在說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分的附圖示出本發(fā)明的典型實(shí)施例、特征和方面,并和說(shuō)明書(shū)一起用來(lái)解釋本發(fā)明的原理。
圖1是示出噴墨記錄設(shè)備的外觀(guān)透視圖。
圖2示出噴墨記錄設(shè)備的框圖。
圖3是示出記錄頭的結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖4示出測(cè)試圖案的概貌圖。
圖5示出要由基準(zhǔn)排出口陣列記錄的點(diǎn)圖案。
圖6A和圖6B示出非基準(zhǔn)排出口陣列的偏移量是-2的點(diǎn)圖案。
圖7A和圖7B示出非基準(zhǔn)排出口陣列的偏移量是-1的點(diǎn)圖案。
圖8A和圖8B示出非基準(zhǔn)排出口陣列的偏移量是0的點(diǎn)圖案。
圖9A和圖9B示出非基準(zhǔn)排出口陣列的偏移量是+1的點(diǎn)圖案。
圖10A和圖10B示出非基準(zhǔn)排出口陣列的偏移量是+2的點(diǎn)圖案。
圖11示出各個(gè)測(cè)試圖案和AD值之間的關(guān)系。
圖12A和圖12B示出用于計(jì)算偏移量β的流程圖。
圖13示出當(dāng)記錄位置中不存在傾斜時(shí)的點(diǎn)布置。
圖14示出當(dāng)記錄位置中存在傾斜時(shí)的點(diǎn)布置。
圖15示出根據(jù)本發(fā)明典型實(shí)施例的傾斜校正。
具體實(shí)施方式
以下將參考附圖來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的各種典型實(shí)施例、特征和方面。
圖1是示出作為根據(jù)本發(fā)明的代表典型實(shí)施例的噴墨記錄設(shè)備1的結(jié)構(gòu)的外觀(guān)透視圖。如圖1所示,噴墨記錄設(shè)備1(下文中還被稱(chēng)為記錄設(shè)備)使安裝有記錄頭3的滑架2沿箭頭A的方向往返移動(dòng)。記錄頭3根據(jù)噴墨方法排出墨滴以執(zhí)行記錄。隨著滑架2的移動(dòng),噴墨記錄設(shè)備1經(jīng)由紙張進(jìn)給機(jī)構(gòu)5進(jìn)給例如記錄薄片的記錄介質(zhì)P并將記錄介質(zhì)P輸送至記錄位置,并且在記錄位置處從記錄頭3向記錄介質(zhì)P排出墨滴以執(zhí)行記錄。噴墨記錄設(shè)備1將由滑架馬達(dá)M?1生成的驅(qū)動(dòng)力經(jīng)由傳遞機(jī)構(gòu)4傳遞至安裝有記錄頭3的滑架2。
在記錄設(shè)備1的滑架2上,不僅安裝有記錄頭3,而且還安裝有用于存儲(chǔ)要供給至記錄頭3的墨的墨盒6。墨盒6可自由地安裝至滑架2以及從滑架2拆卸。此外,滑架2包括在讀取測(cè)試圖案等時(shí)要使用的單個(gè)光學(xué)傳感器(未示出)。
滑架2和記錄頭3在這兩個(gè)構(gòu)件的接合面處適當(dāng)?shù)乇舜私佑|,以使得可以實(shí)現(xiàn)并維持電連接。記錄頭3響應(yīng)于記錄信號(hào),通過(guò)向墨施加能量從多個(gè)排出口(還被稱(chēng)為噴嘴)選擇性地排出墨以執(zhí)行記錄。記錄頭3采取利用熱能排出墨的噴墨方法,并且包括用于生成熱能的電熱轉(zhuǎn)換器(記錄元件)。記錄頭3使用因墨的膜沸騰而引起的氣泡伸縮所產(chǎn)生的壓力變化,從排出口排出墨,其中,墨的膜沸騰是通過(guò)將被施加至電熱轉(zhuǎn)換器的電能轉(zhuǎn)換成熱能并提供該熱能而生成的。與各個(gè)排出口相對(duì)應(yīng)地設(shè)置電熱轉(zhuǎn)換器。根據(jù)記錄信號(hào)向電熱轉(zhuǎn)換器施加脈沖電壓,以使得從與電熱轉(zhuǎn)換器相對(duì)應(yīng)的排出口排出墨。
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B41J 打字機(jī);選擇性印刷機(jī)構(gòu),即不用印版的印刷機(jī)構(gòu);排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
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- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)電路及位置檢測(cè)方法
- 位置估計(jì)設(shè)備、位置估計(jì)方法、以及位置估計(jì)系統(tǒng)
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)方法及位置檢測(cè)程序
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