[發明專利]一種臥式高溫真空鍍膜生產線

有效

• 申請號: 201010195043.1
• 申請日: 2010-06-08
• 公開（公告）號: CN101838799A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 黃國興;孫桂紅;祝海生
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空設備有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 湘潭市匯智專利事務所 43108
• 代理人: 魏娟

技術領域

本發明公開了一種臥式高溫真空鍍膜生產線，屬于機械制造、電子噴鍍、真空技術領域。

背景技術

鍍膜玻璃分為常溫真空鍍膜玻璃和高溫真空鍍膜玻璃，應用于建筑物外墻上的鍍膜玻璃，通常是常溫真空鍍膜玻璃；太陽能電池板用的鍍膜玻璃(TCO)，通常是高溫真空鍍膜玻璃。現有技術中，真空鍍膜生產線分為臥式真空鍍膜生產線和立式真空鍍膜生產線。兩種真空鍍膜生產線是在同一水平平面上分布有多個真空箱體，被鍍玻璃在傳送裝置的輸送下，經過每一個真空箱體進行處理，實現表面鍍膜；現有技術中，臥式真空鍍膜生產線的傳送裝置是采用平行設置的多個橡膠輥組成的輸送軌道實現玻璃的傳送，玻璃傳送時與真空箱體底面處于相互平行的狀態；臥式真空鍍膜生產線由于.采用橡膠輥傳送玻璃，其承載量大，傳送平穩，對玻璃尺寸大小沒有限制，產量高；但由于橡膠輥的耐高溫性能較差，因此，現有臥式真空鍍膜生產線只能用于生產常溫真空鍍膜玻璃。而立式真空鍍膜生產線的傳送裝置則是底部采用步進電機驅動、上部采用磁導向的結構，實現玻璃的傳送；玻璃傳送時與真空箱體底面處于相互垂直的狀態；所述的磁導向裝置是在承載玻璃的基片架上部設置磁鋼，然后，使基片架上部卡裝在兩側壁上設置有多組磁導向單元的U形槽中，利用磁鋼同極排斥的作用，實現對基片架無接觸定位、導向目的，具有傳送平穩、耐高溫、無污染、所鍍膜層均勻性高的優點；但是，由于傳送裝置上部采用磁導向結構保證玻璃在真空鍍膜箱體中的豎向位置精度，也就是采用磁導向結構保證玻璃與電子槍之間的位置精度，實際使用中存在以下問題：首先，無接觸磁導向U形槽與承載玻璃的基片架之間存在一定的間隙，雖然利用磁鋼同極排斥的作用，可以對基片架無接觸定位、導向；由于玻璃在運行時，不可避免的會發生晃動，當玻璃高度較大、自身重量也較大時，其晃動的幅度更大，此時，磁導向結構無接觸定位、導向的即時定位精度明顯降低，從而，影響所鍍膜層均勻性。因此，現有立式真空鍍膜生產線通常只能應用于小尺寸TCO鍍膜玻璃的生產，一方面，產量有限，另一方面，制約了太陽能光伏產業的發展。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術之不足，提供一種結構合理、生產效率高、玻璃傳送平穩、耐高溫、鍍膜質量好、節能、適用于大尺寸玻璃表面高溫真空鍍膜的臥式高溫真空鍍膜生產線。

本發明是采用下述方案實現的：一種臥式高溫真空鍍膜生產線，包括機架、四個真空緩沖箱體和至少一個真空鍍膜箱體、基片架傳送機構、自動裝卸片機構，所述至少一個真空鍍膜箱體設置在所述機架上部中間，所述四個真空緩沖箱體分為兩組，分別設置在所述真空鍍膜箱體兩端的機架上，所述真空緩沖箱體之間及真空緩沖箱體與真空鍍膜箱體之間設置有氣動轉板閥，在所述機架兩端各設有一個自動裝卸片機構；在所述機架的下部及所述真空緩沖箱體和真空鍍膜箱體底部分別設有與所述自動裝卸片機構駁接的基片架傳送機構；所述真空鍍膜箱體內還設有靶槍、加熱器。

本發明中，所述真空緩沖箱體上連接有抽真空羅茨泵或直聯泵。

本發明中，所述真空鍍膜箱體上連接有抽真空分子泵，頂部設有靶門或抽氣口門。

本發明中，所述加熱器設置在所述真空鍍膜箱體中的所述基片架傳送機構上、下方，在所述加熱器與所述真空鍍膜箱體之間設有至少兩層鏡面朝向所述加熱器的鏡面反射板。

本發明中，所述基片架傳送機構包括傳動電機、同步長軸、傳動軸、同步帶、同步輪、摩擦輪，所述同步長軸安裝于所述真空鍍膜箱體兩側箱板之間并由所述傳動電機驅動，所述同步長軸兩端各設有一個同步輪；所述傳動軸為多個，平行均布在所述真空鍍膜箱體兩側箱板上，所述多個傳動軸的軸線處于同一直線上；所述每一個傳動軸的一端設有所述同步輪，兩兩相鄰的傳動軸之間通過所述同步帶驅動，所述每一個傳動軸的另一端設有所述摩擦輪；所述同步長軸兩端設置的同步輪分別通過同步帶驅動設于真空鍍膜箱體該端側箱板上的傳動軸；所述摩擦輪外圓周面上設有與所述摩擦輪同軸線的導向圓環槽或導向圓環臺階，所述導向圓環槽的橫截面為半圓弧形，所述圓環臺階的橫截面為1/4圓弧形。