[發明專利]一種臥式高溫真空鍍膜生產線

有效

• 申請號: 201010195043.1
• 申請日: 2010-06-08
• 公開（公告）號: CN101838799A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 黃國興;孫桂紅;祝海生
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空設備有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 湘潭市匯智專利事務所 43108
• 代理人: 魏娟

1.一種臥式高溫真空鍍膜生產線，包括機架、四個真空緩沖箱體和至少一個真空鍍膜箱體、基片架傳送機構、自動裝卸片機構，其特征在于：所述至少一個真空鍍膜箱體設置在所述機架上部中間，所述四個真空緩沖箱體分為兩組，分別設置在所述真空鍍膜箱體兩端的機架上，所述真空緩沖箱體之間及真空緩沖箱體與真空鍍膜箱體之間設置有氣動轉板閥，在所述機架兩端各設有一個自動裝卸片機構；在所述機架的下部及所述真空緩沖箱體和真空鍍膜箱體底部分別設有與所述自動裝卸片機構駁接的基片架傳送機構；所述真空鍍膜箱體內還設有靶槍、加熱器。

2.根據權利要求1所述的一種臥式高溫真空鍍膜生產線，其特征在于：所述真空緩沖箱體上連接有抽真空羅茨泵或直聯泵。

3.根據權利要求2所述的一種臥式高溫真空鍍膜生產線，其特征在于：所述真空鍍膜箱體上連接有抽真空分子泵，頂部設有靶門或抽氣口門。

4.根據權利要求3所述的一種臥式高溫真空鍍膜生產線，其特征在于：所述加熱器設置在所述真空鍍膜箱體中的所述基片架傳送機構上、下方，在所述加熱器與所述真空鍍膜箱體之間設有至少兩層鏡面朝向所述加熱器的鏡面反射板。

5.根據權利要求4所述的一種臥式高溫真空鍍膜生產線，其特征在于：所述基片架傳送機構包括傳動電機、同步長軸、傳動軸、同步帶、同步輪、摩擦輪，所述同步長軸安裝于所述真空鍍膜箱體兩側箱板之間并由所述傳動電機驅動，所述同步長軸兩端各設有一個同步輪；所述傳動軸為多個，平行均布在所述真空鍍膜箱體兩側箱板上，所述多個傳動軸的軸線處于同一直線上；所述每一個傳動軸的一端設有所述同步輪，兩兩相鄰的傳動軸之間通過所述同步帶驅動，所述每一個傳動軸的另一端設有所述摩擦輪；所述同步長軸兩端設置的同步輪分別通過同步帶驅動設于真空鍍膜箱體該端側箱板上的傳動軸；所述摩擦輪外圓周面上設有與所述摩擦輪同軸線的導向圓環槽或導向圓環臺階，所述導向圓環槽的橫截面為半圓弧形，所述圓環臺階的橫截面為1/4圓弧形。

6.根據權利要求5所述的一種臥式高溫真空鍍膜生產線，其特征在于：所述自動裝卸片機構包括機架、第一基片架傳送機構、第二基片架傳送機構、第一基片傳送機構、第三基片架傳送機構、第二基片傳送機構，在所述機架的一端設有所述第一基片傳送機構，在所述機架另一端設有所述第一基片架傳送機構；在所述機架內設有導向光桿和絲桿，所述導向光桿和絲桿垂直于所述機架底面且相互平行；在所述機架上設有驅動所述絲桿正反轉的電機；所述第二基片架傳送機構上設有螺孔及通孔，所述螺孔旋裝在所述絲桿上、所述通孔套裝在所述導向光桿上；所述第二基片傳送機構上也設有通孔，分別套裝在所述絲桿及導向光桿上，所述第二基片傳送機構通過汽缸活塞與所述第二基片架傳送機構固連并處于所述第二基片架傳送機構下方；所述第二基片傳送機構上設有多個摩擦傳動輪，所述摩擦傳動輪的安裝尺寸處于所述第二基片架傳送機構中心設置的矩形通孔正投影范圍內；所述第二基片傳送機構與所述第二基片架傳送機構上分別設置有驅動電機；所述第一基片架傳送機構上方平行設置有第三基片架傳送機構，所述第一基片架傳送機構、第三基片架傳送機構沿所述機架高度方向有一定間距。