[發(fā)明專利]化學(xué)汽相沉積設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010188476.4
• 申請日: 2010-06-01
• 公開（公告）號: CN101906619A
• 公開（公告）日: 2010-12-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樸商基;河政旼;黃成龍
• 申請（專利權(quán)）人: 周星工程股份有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;鐘強(qiáng)

1.一種化學(xué)汽相沉積設(shè)備，包括：

具有用于支撐基板的基板支撐件的腔室；

具有多個(gè)第一源供應(yīng)孔的腔室蓋，所述腔室蓋安裝在所述腔室上方；

用于提供處理源至所述多個(gè)第一源供應(yīng)孔的多個(gè)源供應(yīng)管；

具有多個(gè)第二源供應(yīng)孔的噴射管支撐件，所述多個(gè)第二源供應(yīng)孔對應(yīng)于所述多個(gè)第一源供應(yīng)孔，所述噴射管支撐件可拆卸地安裝在所述腔室蓋中；以及

具有多個(gè)第三源供應(yīng)孔和多個(gè)源噴射孔的多個(gè)源噴射管，所述多個(gè)源噴射管由所述噴射管支撐件支撐，其中所述多個(gè)第三源供應(yīng)孔由所述多個(gè)第二源供應(yīng)孔提供所述處理源，所述多個(gè)源噴射孔噴射所述處理源到所述基板上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述腔室蓋包括：

底座，在所述底座中形成所述多個(gè)第一源供應(yīng)孔；

支撐件安裝部分，在所述支撐件安裝部分中可拆卸地安裝所述噴射管支撐件，所述支撐件安裝部分形成在所述底座的背面；以及

冷卻組件安裝部分，在所述冷卻組件安裝部分中安裝用于冷卻所述噴射管支撐件的溫度的冷卻組件，所述冷卻組件安裝部分形成在所述底座中。

3.一種化學(xué)汽相沉積設(shè)備，包括：

具有用于支撐基板的基板支撐件的腔室；

安裝在所述腔室上方的腔室蓋；

用于將外部提供的處理源噴射到所述基板上的源噴射組件，所述源噴射組件可拆卸地安裝在所述腔室蓋中；以及

用于冷卻所述源噴射組件的溫度的冷卻組件，所述冷卻組件安裝在所述腔室蓋內(nèi)部。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述腔室蓋包括：

底座；

用于提供所述處理源至所述源噴射組件的多個(gè)第一源供應(yīng)孔，所述多個(gè)第一源供應(yīng)孔是通過貫穿所述底座以固定的間隔來形成的；

支撐件安裝部分，在所述支撐件安裝部分中可拆卸地安裝所述源噴射組件，所述支撐件安裝部分形成在所述底座的背面；以及

冷卻組件安裝部分，在所述冷卻組件安裝部分中安裝所述冷卻組件，所述冷卻組件安裝部分形成在所述底座中。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述源噴射組件包括：

以固定間隔設(shè)置的多個(gè)源噴射管；

用于支撐所述多個(gè)源噴射管的噴射管支撐件，所述噴射管支撐件可拆卸地安裝在所述底座中；

形成在所述噴射管支撐件中的多個(gè)第二源供應(yīng)孔，所述多個(gè)第二源供應(yīng)孔對應(yīng)于所述多個(gè)第一源供應(yīng)孔；

形成在各個(gè)源噴射管中的多個(gè)第三源供應(yīng)孔，所述多個(gè)第三源供應(yīng)孔對應(yīng)于所述多個(gè)第二源供應(yīng)孔；以及

用于噴射所述處理源到所述基板上的多個(gè)源噴射孔，所述多個(gè)源噴射孔以固定間隔形成在各個(gè)源噴射管中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，還包括具有多個(gè)開口的護(hù)罩，所述多個(gè)開口對應(yīng)于所述多個(gè)源噴射管，所述護(hù)罩可拆卸地安裝在所述腔室蓋的背面。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述開口以對應(yīng)于所述多個(gè)源噴射管的每個(gè)的縱向方向的條狀形成，或者以對應(yīng)于所述多個(gè)源噴射孔的每個(gè)的孔狀形成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，還包括用于密封所述多個(gè)第二源供應(yīng)孔的周圍的密封件。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述噴射管支撐件支撐以“N”個(gè)為一組提供的多個(gè)源噴射管，即支撐所述源噴射管中的包含“N”個(gè)的每一組。

10.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述支撐件安裝部分包括：

在所述底座的背面中的彼此平行的第一插槽，在所述第一插槽中可拆卸地安裝所述噴射管支撐件；以及

以固定間隔設(shè)置在所述底座的背面中的多個(gè)第二插槽，所述多個(gè)第二插槽以直角與所述第一插槽交叉，其中所述多個(gè)源噴射管分別安裝在所述多個(gè)第二插槽中。

11.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，其中所述冷卻組件安裝部分是通過對所述底座的上表面進(jìn)行刻槽而以多彎曲的形狀來形成的。

12.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的化學(xué)汽相沉積設(shè)備，還包括用于將安裝有所述冷卻組件的所述冷卻組件安裝部分覆蓋的蓋子。