[發明專利]硅片清洗制絨槽

無效

• 申請號: 201010186514.2
• 申請日: 2010-05-31
• 公開（公告）號: CN101831713A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發明（設計）人: 王瑞勛
• 申請（專利權）人: 常州億晶光電科技有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 周祥生

【技術領域】

本發明涉及一種電池片生產用裝置，尤其涉及太陽能電池硅片清洗制絨槽。

【背景技術】

太陽能是一種輻射能，與其他能源相比，太陽能不會產生有毒、有害氣體和廢渣，它是一種綠色能源，因而不會污染環境。同時太陽光隨處可得，使用方便、安全，成本低廉，可以再生。但它必須借助于能量轉換器才能轉換為電能，這種把光能轉換成電能的能量轉換器，就是太陽能電池，隨著太陽能光伏產業技術的不斷提升，對于太陽能產品的質量以及成本提出了新的要求。而制作太陽能電池的原料為硅料，硅料拉制成硅棒，硅片是由硅棒通過多線切割機切割制備而成的，切好的硅片，表面附著砂漿等雜質并且表面凹凸不平，因此在制造電池之前要先進行硅片的表面處理，包括硅片的化學清洗和硅片的表面腐蝕。化學清洗是為了除去硅片上的各種雜質，表面腐蝕的目的是除去硅片表面的切割損傷，獲得適合制結要求的硅表面。制結前硅片表面的性能和狀態，直接影響結的特性，從而影響成品電池的性能。硅片經過表面處理后即開始制絨，制絨工藝是整個工藝生產線中最為重要的一環，其目的是通過化學腐蝕的方法在硅片表面進行織構化處理，形成良好的陷光效應，降低硅片表面發射率。目前通用的生產工藝是采用槽式制絨，在較高的溫度環境中用KOH或者NaOH溶液進行各向異性腐蝕，在硅片表面腐蝕出類似于金字塔結構的角錐體，來實現入射光的多次反射，降低表面反射率。而槽內腐蝕液的均勻性和溫度場的均勻性就決定了大批量工業化生產的穩定性，所以工藝過程中的溫度場的穩定性是最為重要的一個影響因子。目前清洗槽和制絨槽的加熱方式是通過不銹鋼管式加熱器或鐵氟龍管式加熱器加熱，把不銹鋼管式加熱器或鐵氟龍管式加熱器直接放在清洗槽和制絨槽的底部，在加熱器上鋪上一層不銹鋼板，再把硅片放在不銹鋼板上，由于清洗槽和制絨槽的材料為PP塑料，其耐溫不超過275℃，將加熱管與槽底直接接觸會導致槽底燒壞，從而引發事故，同時，將加熱管直接放置在槽底，會造成溫度擴散緩慢和不均勻。

【發明內容】

為了克服現有清洗制絨槽存在的不足，本發明提供了一種太陽能硅片清洗制絨槽。采用這種清洗制絨槽，它既能夠有效防止加熱管燒壞槽底，又能保證槽內液體溫度的均勻性。

本發明采用的技術方案是：

本發明所述硅片清洗制絨槽，它包括槽體和加熱管，其特征是：在槽體的槽底上設有加熱管支撐架。

進一步，所述加熱管支撐架由二塊對稱分布的鐵氟龍塑料塊組成，在每塊鐵氟龍塑料塊上開設有加熱管限位槽，加熱管限位槽到槽底的高度為槽內溶液高度的1/5～1/4。

由于在硅片清洗制絨槽內增設了加熱管支撐架，加熱管由加熱管支撐架上的加熱管限位槽限位，加熱管支撐架將加熱管與清洗制絨槽的槽壁和槽底隔開，避免了加熱管與清洗制絨槽的槽壁和槽底直接接觸，確保清洗制絨槽不被高溫燒損。加熱時，加熱管上的溫度能夠均勻地向槽內溶液的四周擴散，保證了槽內溶液溫度的均勻性，同時也保證了生產的安全。

【附圖說明】

圖1為現有技術的結構示意圖，即加熱管直接放置在硅片清洗制絨槽內；

圖2、圖3為本發明的示意圖，

即加熱管放置在清洗制絨槽內加熱管的支撐架上；

圖3為圖2的右視圖；

圖中：1-槽體；2-加熱管；3-槽底；4-加熱管支撐架；5-加熱管限位槽；6-槽壁。

【具體實施方式】

所述硅片清洗制絨槽，如圖2、圖3所示，它由槽體1、加熱管2和加熱管支撐架4組成，所述加熱管支撐架4由二塊對稱分布的鐵氟龍塑料塊組成，在每塊鐵氟龍塑料塊上開設有加熱管限位槽5，加熱管支撐架4放置在槽體1的底部，加熱管支撐架4將加熱管2與清洗制絨槽的槽壁6和槽底3隔開，加熱管限位槽5到槽底3的高度為槽內溶液高度的1/4。