[發(fā)明專利]閉回路鐵芯繞線方法與結(jié)構(gòu)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010182762.X | 申請(qǐng)日: | 2010-05-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102254677A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王敬順;夏春華;唐遠(yuǎn)彬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)盛科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01F41/08 | 分類號(hào): | H01F41/08 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯長(zhǎng)明 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 回路 鐵芯繞線 方法 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種閉回路鐵芯繞線結(jié)構(gòu),其特征在于,包含:
一閉回路鐵芯;
一導(dǎo)電層,附著于該閉回路鐵芯表面,經(jīng)移除部分的該導(dǎo)電層而形成平行的二螺旋線圈環(huán)繞該閉回路鐵芯;及
多個(gè)連接端點(diǎn),連接至該些螺旋線圈的二端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閉回路鐵芯繞線結(jié)構(gòu),其特征在于,該導(dǎo)電層經(jīng)電鍍或化學(xué)沉積附著于該閉回路鐵芯表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閉回路鐵芯繞線結(jié)構(gòu),其特征在于,該些連接端點(diǎn)位于該閉回路鐵芯的外緣同一端。
4.一種閉回路鐵芯繞線方法,其特征在于,包含:
提供一閉回路鐵芯;
附著一導(dǎo)電層于該閉回路鐵芯表面;
以雷射沿橫跨該閉回路鐵芯的內(nèi)緣與外緣之間的多個(gè)線路徑移除位于該閉回路鐵芯的正面及反面的該導(dǎo)電層;
以雷射移除部分該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)面及外側(cè)面的該導(dǎo)電層而連接沿該些線路徑被移除部分,產(chǎn)生平行的二螺旋溝槽,該些螺旋溝槽間的該導(dǎo)電層形成平行的二螺旋線圈環(huán)繞該閉回路鐵芯;及
提供多個(gè)連接端點(diǎn)連接至該些螺旋線圈的二端。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的繞線方法,其特征在于,附著一導(dǎo)電層于該閉回路鐵芯表面的步驟采電鍍法或化學(xué)沉積法。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的繞線方法,其特征在于,更包含,設(shè)置該些連接端點(diǎn)于該閉回路鐵芯的外緣同一端。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的繞線方法,其特征在于,以雷射沿橫跨該閉回路鐵芯的內(nèi)緣與外緣之間的多個(gè)線路徑移除位于該閉回路鐵芯的正面及反面的該導(dǎo)電層的步驟中,該雷射垂直照射該閉回路鐵芯的正面及反面。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的繞線方法,其特征在于,若該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)及外側(cè)成圓弧狀凸起,省略以雷射移除部分該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)面及外側(cè)面的該導(dǎo)電層的步驟,并于移除位于該閉回路鐵芯的正面及反面的該導(dǎo)電層時(shí)形成平行的二螺旋溝槽,該些螺旋溝槽間的該導(dǎo)電層形成平行的二螺旋線圈環(huán)繞該閉回路鐵芯。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的繞線方法,其特征在于,以雷射移除部分該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)面及外側(cè)面的該導(dǎo)電層的步驟中,該雷射以傾斜一角度刻劃該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)面及外側(cè)面。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的繞線方法,其特征在于,以雷射移除部分該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)面及外側(cè)面的該導(dǎo)電層的步驟中,更包含,設(shè)置一光反射板于該閉回路鐵芯內(nèi)側(cè),用以反射該雷射而刻劃該閉回路鐵芯的內(nèi)側(cè)面及外側(cè)面。
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