[發明專利]一種高頻電路輻射電磁干擾分析方法

無效

• 申請號: 201010182263.0
• 申請日: 2010-05-25
• 公開（公告）號: CN101839949A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 褚家美;趙陽;羅永超;顏偉;李世錦
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: G01R29/08
• 分類號: G01R29/08
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

1.一種高頻電路輻射電磁干擾的分析方法，其特征在于對輻射EMI復合場中的單個輻射源進行重構，采用的儀器為數字雙蹤示波器和兩套近場電磁場探頭，具體步驟如下：

第一步：將第一近場探頭(1)和第二近場探頭(2)與雙蹤示波器的第一通道和第二通道分別相連，其中第一近場探頭(1)和第二近場探頭(2)型號相同，且兩個同為近場電場探頭或者同為近場磁場探頭；

第二步：將第一近場探頭(1)和第二近場探頭(2)分別放置在高頻電路附近進行n次測量，并從雙蹤示波器中獲得高頻電路輻射EMI時域信號；其中，測量次數n與待測高頻電路中輻射電磁干擾源個數有關，對于高頻電路，n＝4或n＝5，并且每次測量時上述兩探頭與電路平面之間的距離相等，此外，任意兩次測量時兩探頭所處的位置不能完全相同，同時需要將相關度較差的處理結果舍去；

第三步：將第二步獲得的高頻電路輻射EMI時域信號利用盲信號分析方法進行處理將上述待測高頻電路中輻射EMI時域信號分離為單獨的共模輻射信號和差模輻射信號，從而對形成輻射EMI復合場的每個獨立電磁輻射源進行重構，進一步得到各個獨立電磁輻射干擾源情況。

2.如權利要求1所述的高頻電路輻射電磁干擾的分析方法，其特征在于所述進一步得到各個獨立電磁輻射干擾源情況，從而得到各輻射源是由共模輻射引起，還是由差模輻射引起，采用的儀器為頻譜分析儀和近場電磁場探頭，具體步驟是：

第一步：將近場電場探頭的輸出端與頻譜分析儀的輸入端相連，對所述的電磁輻射干擾源，利用近場電場探頭進行測量，從而可從頻譜分析儀上獲得近場電場探頭測量結果；

第二步：將近場磁場探頭與頻譜分析儀相連，對所述的電磁輻射干擾源，利用近場磁場探頭進行測量，從而可從頻譜分析儀上獲得近場磁場探頭測量結果；

第三步：對于各個電磁輻射干擾源，把第一步和第二步測量結果進行比較，如果某輻射干擾源由第一步獲得的近場電場探頭測量結果大于第二步獲得的近場磁場探頭測量結果，則說明該輻射干擾源的輻射特征以共模輻射為主；如果某輻射干擾源由第一步獲得的近場磁場探頭測量結果大于第二步獲得的近場電場探頭測量結果，則說明該輻射干擾源的輻射特征以差模輻射為主，如果某輻射干擾源由第一步獲得的近場磁場探頭測量結果和第二步獲得的近場電場探頭測量結果相差不大，且都比較突出，則說明該輻射源既是共模源又是差模源，如果某輻射干擾源由第一步獲得的近場磁場探頭測量結果和第二步獲得的近場電場探頭測量結果都明顯較小，則說明該位置不屬于輻射源。