[發(fā)明專利]有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010180970.6
• 申請(qǐng)日: 2010-05-14
• 公開（公告）號(hào): CN102242353A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江俊德;林明宏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山市奇明光電有限公司;奇力光電科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/54
• 分類號(hào): C23C16/54;C23C16/18
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，包含：

反應(yīng)腔體，具有開口；

旋轉(zhuǎn)座，設(shè)于該反應(yīng)腔體中；

晶片承載盤，設(shè)于該旋轉(zhuǎn)座上，且該旋轉(zhuǎn)座可帶動(dòng)該晶片承載盤旋轉(zhuǎn)，其中該晶片承載盤包含至少二不同直徑的多個(gè)承載區(qū)，設(shè)于該晶片承載盤的表面上，該多個(gè)承載區(qū)適用以對(duì)應(yīng)裝載多個(gè)晶片；

加熱器，設(shè)于該晶片承載盤下方，且位于該旋轉(zhuǎn)座內(nèi)；以及

噴氣頭，覆蓋在該反應(yīng)腔體的該開口上，以朝該晶片承載盤的該表面上施放反應(yīng)氣體。

2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)承載區(qū)包含多個(gè)直徑2英寸的承載區(qū)、以及多個(gè)直徑4英寸的承載區(qū)。

3.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)承載區(qū)中包含直徑相同的多個(gè)第一承載區(qū)、以及直徑相同的至少一第二承載區(qū)，且該多個(gè)第一承載區(qū)的直徑大于該至少一第二承載區(qū)的直徑。

4.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)第一承載區(qū)的深度大于該至少一第二承載區(qū)的深度。

5.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)第一承載區(qū)的深度等于該至少一第二承載區(qū)的深度。

6.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)承載區(qū)的深度小于對(duì)應(yīng)裝載的該多個(gè)晶片的厚度。

7.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)承載區(qū)的深度等于對(duì)應(yīng)裝載的該多個(gè)晶片的厚度。

8.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)承載區(qū)的形狀與對(duì)應(yīng)裝載的該多個(gè)晶片的形狀相同。

9.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該多個(gè)承載區(qū)的直徑等于或大于對(duì)應(yīng)裝載的該多個(gè)晶片的直徑。

10.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，其中該加熱器不為該旋轉(zhuǎn)座所帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)。