[發(fā)明專利]高反射鏡激光積分散射率多角度綜合測量裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010179258.4 | 申請日: | 2010-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN101839802A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉衛(wèi)國;高愛華;孫鑫;王越 | 申請(專利權)人: | 西安工業(yè)大學 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02;G02B17/06 |
| 代理公司: | 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114 | 代理人: | 黃秦芳 |
| 地址: | 710032*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 激光 積分 散射 角度 綜合 測量 裝置 | ||
1.一種高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,包括設置于光學平臺(19)上的光源組件和積分球(14),其特征在于:所述光源組件上設置有波片(4)和衰減片(6),所述積分球(14)上設置有入射口、測量口和輸出口,輸出口上設置有光電倍增管(18),入射口上設置有光闌,入射口和測量口上還設置有配件,其特殊之處在于:所述積分球(14)上還設置有帶配件的消光口,所述入射口、測量口和消光口設置有相互對應的多組,每組中進入入射口的入射光與反射出出光口的射出光的光程近似相等,入射光與測量法線的夾角為測量角,在反射光的光路上、出光口的外側設置有消光阱。
2.根據(jù)權利要求1所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:還包括可調的光路轉折組件,光路轉折組件設置于光源組件與積分球(14)之間。
3.根據(jù)權利要求2所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:所述得光路轉折組件包括可移動的相對設置的第三反射鏡(9)和第四反射鏡(10)。
4.根據(jù)權利要求3所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:所述得積分球(14)上設置有兩組測量開口,包括第一入射口、第二入射口、第一測量口、第二測量口、第一出光口(23)和第二出光口(25),其中:
(1)第一入射口上設置第一光闌(13),在積分球(14)以外、反射光的光路上、第一出光口(23)的外側設置第一消光阱(17),該組中從第一入射口到第一測量口的入射光光程與第一測量口到第一出光口(23)的反射光光程近似相等,入射光與測量法線的夾角為45度測量角,即入射角為45度;
(2)第二入射口上設置第二光闌(12),在積分球(14)以外、反射光的光路上、第二出光口(25)的外側設置有第二消光阱(11),該組中從第二入射口到第二測量口的入射光光程與第二測量口到第二出光口(25)的反射光光程近似相等,入射光與測量法線的夾角為1.25~2.25度測量角,近似0度,即入射角為0度;
在第一光闌(13)(第一入射口)、第二光闌(12)(第二入射口)、第一測量口、第二測量口、第一出光口(23)和第二出光口(25)上均設置有配件。
5.根據(jù)權利要求3所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:所述的積分球(14)上設置有三組測量開口,包括第一入射口、第二入射口、第三入射口、第一測量口、第二測量口、第三測量口、第一出光口(23)、第二出光口(25)和第三出光口(24),其中:
(1)第一入射口上設置第一光闌(13),在積分球(14)以外、反射光的光路上、第一出光口(23)的外側設置有第一消光阱(17),該組中從第一入射口到第一測量口的入射光光程與第一測量口到第一消光口(23)的反射光光程近似相等,入射光與測量法線的夾角為45度測量角,即入射角為45度;
(2)第二入射口上設置第二光闌(12),在積分球(14)以外、反射光的光路上、第二消光口(25)的外側設置有第二消光阱(11),該組中從第二入射口到第二測量口的入射光光程與第二測量口到第二消光口(25)的反射光光程近似相等,入射光與測量法線的夾角為1.25~2.25度測量角,近似0度,即入射角為0度;
(3)第三入射口上設置第三光闌(20),在積分球(14)以外、反射光的光路上、第三消光口(24)的外側設置有第三消光阱(22),該組中從第三入射口到第三測量口的入射光光程與第三測量口到第三消光口(24)的反射光光程近似相等,入射光與測量法線的夾角為30度測量角,即入射角為30度;
在第一光闌(13)(第一入射口)、第二光闌(12)(第二入射口)、第三光闌(20)(第三入射口)、第一測量口、第二測量口、第三測量口、第一出光口(23)、第二出光口(25)和第三出光口(24)上均設置有配件。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:所述的波片(4)和衰減片(6)分別設置有多個,分別設置于可旋轉的波片固定圓盤和可旋轉的衰減片固定圓盤上。
7.根據(jù)權利要求6所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:所述的波片固定圓盤上開有按90°對稱分布且中心位于同一圓周上的四個孔,其中3個孔分別安裝有兩片1/2波片和一片1/4波片,另一個為通孔。
8.根據(jù)權利要求6所述的高反射鏡激光積分散射率雙角度綜合測量裝置,其特征在于:所述的衰減片固定圓盤上開有按90°對稱分布且中心位于同一圓周上的四個孔,相對于波片固定圓盤上1/2波片和1/4波片的位置上設置的是1%、0.1%和0.01%的光衰減片,另一個為通孔。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安工業(yè)大學,未經西安工業(yè)大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010179258.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:水中重金屬離子的現(xiàn)場快速檢測方法
- 下一篇:壓力表





