[發明專利]光學記錄介質及其制造方法

無效

• 申請號: 201010178025.2
• 申請日: 2010-05-11
• 公開（公告）號: CN101894569A
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發明（設計）人: 諏訪部正次;中山比呂史;豬狩孝洋;太田輝之
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24;G11B7/26
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種光學記錄介質，包括：

基板，具有第一主表面和第二主表面；

一個或多個信息信號層，形成在所述基板的所述第一主表面上，用于在被光照射時進行信息信號的記錄或再現；以及

阻擋層，形成在所述基板的所述第二主表面上，用于抑制氣體從所述基板的所述第二主表面釋放，其中

所述基板的所述第二主表面由所述阻擋層暴露的區域的面積不大于688mm²。

2.根據權利要求1所述的光學記錄介質，其中

所述暴露的區域的面積不大于398.2mm²。

3.根據權利要求1所述的光學記錄介質，其中

所述阻擋層包括電介質材料。

4.根據權利要求1所述的光學記錄介質，包括：

第一信息信號層和第二信息信號層，在所述基板的所述第一主表面上依次形成，其中

所述第二信息信號層包含鉍、鍺和碲。

5.根據權利要求1所述的光學記錄介質，包括：

多個信息信號層，在所述基板的所述第一主表面上形成；以及

含有樹脂材料的中間層，在所述多個信息信號層之間或中間。

6.根據權利要求1所述的光學記錄介質，其中

所述基板包含具有吸水特性的樹脂材料。

7.一種制造光學記錄介質的方法，包括如下步驟：

成型具有第一主表面和第二主表面的基板；

在所述基板的所述第一主表面上形成第一信息信號層；

在所述第一信息信號層上形成中間層；

在所述中間層上形成第二信息信號層；以及

在成型所述基板的所述步驟之后并在形成所述第二信息信號層的所述步驟之前，在所述基板的所述第二主表面上形成阻擋層，所述阻擋層用于抑制氣體從所述基板的所述第二主表面釋放，其中

在形成所述阻擋層的所述步驟中，所述基板的所述第二主表面由所述阻擋層暴露的區域的面積被設定為不大于688mm²。

8.根據權利要求7所述的制造光學記錄介質的方法，還包括：

在形成所述中間層的所述步驟之后并在形成所述第二信息信號層的所述步驟之前，傳送其上形成有所述中間層的所述基板的步驟，其中

傳送區間的露點不高于-5℃。

9.根據權利要求8所述的制造光學記錄介質的方法，其中

所述傳送區間的所述露點不高于-15℃。