[發(fā)明專利]混合氣體供給系統(tǒng)、濺鍍裝置及濺鍍方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010177004.9 | 申請日: | 2010-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN102251220A | 公開(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 洪新欽 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 混合氣體 供給 系統(tǒng) 裝置 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及濺鍍技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種混合氣體供給系統(tǒng)、一種濺鍍裝置及一種濺鍍方法。
背景技術(shù)
濺鍍是利用離子撞擊靶材,將靶材內(nèi)的原子撞出而沉積于基材表面堆積成膜。于濺鍍化合物薄膜時,若直接以化合物為靶材,濺鍍出的薄膜成份會與靶材成份相差很大,故一般于濺鍍化合物薄膜時,通常將反應(yīng)氣體混合于放電氣體中,該反應(yīng)氣體與靶材撞擊出來的原子進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),以控制化合物薄膜的組成與性質(zhì),此種濺鍍方法稱為反應(yīng)性濺鍍。
于工件表面鍍上多層膜可提高工件的表面性能。采用反應(yīng)性濺鍍鍍多層膜時需采用多種反應(yīng)氣體。對鍍一層膜而言,有時亦需于兩種或兩種以上反應(yīng)氣體組成的混合氣體中進(jìn)行。現(xiàn)有濺鍍裝置設(shè)有混合腔來混合兩種或兩種以上反應(yīng)氣體,然后將混合后的氣體輸入濺鍍腔。若相鄰兩層待鍍膜層所對應(yīng)的混合氣體中各反應(yīng)氣體的比例或者氣體種類不同,則需換氣,即將下層膜層所對應(yīng)的混合氣體全部抽出該混合腔后,然后按比例輸入新的反應(yīng)氣體至該混合腔混合,來獲得上層膜層對應(yīng)的混合氣體,再將該混合氣體輸至濺鍍腔,比較耗時。對應(yīng)地,于此段換氣時間內(nèi),因等待混合氣體,反應(yīng)性濺鍍被迫中斷,不利于提高產(chǎn)能。
有鑒于此,提供一種混合氣體供給系統(tǒng)、一種濺鍍裝置及一種濺鍍方法來提高產(chǎn)能實(shí)為必要。
發(fā)明內(nèi)容
以下以實(shí)施方式為例說明一種混合氣體供給系統(tǒng)、一種濺鍍裝置及一種濺鍍方法。
一種混合氣體供給系統(tǒng),包括至少兩個氣體源、至少兩個氣體質(zhì)量流量控制器、至少兩個第一閥門、至少兩個三通閥門、多個第二閥門、兩個混合腔及兩個第三閥門。每個氣體源與一個第一閥門及一個氣體質(zhì)量流量控制器依次相連。每個氣體質(zhì)量流量控制器通過一個三通閥門選擇性地與一個第二閥門及該兩個混合腔中的一個混合腔依次相連。各混合腔設(shè)有出氣口,該出氣口與一個第三閥門相通。
一種濺鍍裝置,包括濺鍍腔及用于向該濺鍍腔內(nèi)供應(yīng)混合氣體的混合氣體供給系統(tǒng)。該混合氣體供給系統(tǒng)包括至少兩個氣體源、至少兩個氣體質(zhì)量流量控制器、至少兩個第一閥門、至少兩個三通閥門、多個第二閥門、兩個混合腔及兩個第三閥門。每個氣體源與一個第一閥門及一個氣體質(zhì)量流量控制器依次相連。每個氣體質(zhì)量流量控制器通過一個三通閥門選擇性地與一個第二閥門及該兩個混合腔中的一個混合腔依次相連。各混合腔設(shè)有出氣口,該出氣口通過一個第三閥門與該濺鍍腔相連。
一種濺鍍方法,包括:提供前述濺鍍裝置及待鍍工件;于該三通閥門的控制下自該至少兩個氣體源向該兩個混合腔中的一個混合腔輸入各種反應(yīng)氣體,混合,得第一混合氣體;輸送該第一混合氣體至該濺鍍腔,濺鍍該工件,同時于該三通閥門的控制下自該至少兩個氣體源向該兩個混合腔中的另一個混合腔輸入各種反應(yīng)氣體,混合,得第二混合氣體;輸送該第二混合氣體至該濺鍍腔,濺鍍該工件。
相較于現(xiàn)有技術(shù),本技術(shù)方案提供的濺鍍裝置包括兩個混合腔。當(dāng)采用該兩個混合腔之一個混合腔的混合氣體于工件表面反應(yīng)性濺鍍下層膜的同時,可采用該兩個混合腔之另一個混合腔混合上層膜所需氣體,待下層膜鍍完畢,可立即采用該另一個混合腔內(nèi)的氣體濺鍍上層膜,由此避免等待混合氣體,節(jié)約大量時間,大幅提高產(chǎn)能。
附圖說明
圖1為本技術(shù)方案一實(shí)施方式提供的濺鍍裝置的示意圖。
圖2為本技術(shù)方案另一實(shí)施方式提供的濺鍍裝置的示意圖。
主要元件符號說明
濺鍍裝置???????????????????????????????100、200
混合氣體供給系統(tǒng)????????????????????40、240
氣體源??????????????????????????????51、251
氣體質(zhì)量流量控制器??????????????????52、252
第一閥門????????????????????????????53、253
逆止閥??????????????????????????????260
三通閥??????????????????????????????54、254
第二閥門????????????????????????????55、255
第一混合腔??????????????????????????56、256
第一出氣口??????????????????????????561
第二出氣口??????????????????????????562
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010177004.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:可供按摩的車座
- 下一篇:多功能濾網(wǎng)
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





