[發(fā)明專利]一種曝光設(shè)備、掩膜板及曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010175938.9
• 申請日: 2010-05-14
• 公開（公告）號: CN102243444A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭建;周偉峰;明星;陳永;肖光輝
• 申請（專利權(quán)）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/14
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種曝光設(shè)備，包括：承載基板的載臺；在所述載臺上方，與所述載臺平行地設(shè)有掩膜板；所述掩膜板與所述載臺之間設(shè)有透鏡裝置；第一照明光源，射出的光線從所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿過所述掩膜板，經(jīng)由所述透鏡裝置射到所述載臺；

其特征在于，在所述掩膜板的下表面上，所述掩膜板的光吸收區(qū)域中設(shè)有光反射區(qū)域；

在所述透鏡裝置中設(shè)有光反射裝置；

第二照明光源，射出的光線通過所述透鏡裝置中的光反射裝置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射區(qū)域反射，經(jīng)由所述透鏡裝置射到所述載臺。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述透鏡裝置包括：等腰梯形棱鏡、凹透鏡和凸透鏡，其中，所述等腰梯形棱鏡的上底面與下底面垂直于所述掩膜板，所述凹透鏡和凸透鏡位于所述等腰梯形棱鏡的上底面一側(cè)；

所述光反射裝置為反射鏡，設(shè)于所述等腰梯形棱鏡中。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其特征在于，

設(shè)所述等腰梯形棱鏡腰面與下底面的夾角為b；

設(shè)所述等腰梯形棱鏡上腰面的折射率為n；

設(shè)所述反射鏡向上反射的光線與所述等腰梯形棱鏡上腰面的法線夾角為c，則c＝arcsin(cosb/n)；

設(shè)所述反射鏡的水平夾角為a，且2a＝b+c。

4.一種掩膜板，包括完全透光區(qū)域和光吸收區(qū)域，其特征在于，在掩膜板面向基板的一側(cè)的光吸收區(qū)域中設(shè)有光反射區(qū)域。

5.一種曝光方法，其特征在于，包括：

將涂覆有第一光刻膠層的基板置于掩膜板的下方，所述基板與所述掩膜板平行；

開啟第一照明光源，光線從所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿過所述掩膜板的完全透光區(qū)域，經(jīng)由透鏡裝置射到所述第一光刻膠層上；

關(guān)閉所述第一照明光源；

將涂覆有第二光刻膠層的基板置于所述掩膜板的下方，所述基板與所述掩膜板平行；

開啟第二照明光源，射出的光線通過所述透鏡裝置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射區(qū)域反射，再經(jīng)由所述透鏡裝置射到所述第二光刻膠層上，其中，在所述掩膜板面向基板的一側(cè)的光吸收區(qū)域中設(shè)有光反射區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述透鏡裝置包括：等腰梯形棱鏡、凹透鏡和凸透鏡，其中，所述等腰梯形棱鏡的上底面與下底面垂直于所述掩膜板，所述凹透鏡和凸透鏡位于所述等腰梯形棱鏡的上底面一側(cè)；所述光反射裝置為反射鏡，設(shè)于所述等腰梯形棱鏡中。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，

設(shè)所述等腰梯形棱鏡腰面與下底面的夾角為b；

設(shè)所述等腰梯形棱鏡上腰面的折射率為n；

設(shè)所述反射鏡向上反射的光線與所述等腰梯形棱鏡上腰面的法線夾角為c，則c＝arcsin(cosb/n)；

設(shè)所述反射鏡的水平夾角為a，且2a＝b+c。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述第二照明光源位于所述基板和所述掩膜板的外圍側(cè)，其所發(fā)射光線通過所述透鏡裝置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面。