[發明專利]一種曝光設備、掩膜板及曝光方法

有效

• 申請號: 201010175938.9
• 申請日: 2010-05-14
• 公開（公告）號: CN102243444A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: 郭建;周偉峰;明星;陳永;肖光輝
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/14
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及薄膜晶體管液晶顯示器制造領域，尤其涉及一種曝光設備、掩膜板及曝光方法。

背景技術

TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display，薄膜晶體管液晶顯示器)因其體積小，功耗低、無輻射等特點，在當前的平板顯示器市場占據了主導地位。

TFT-LCD器件是由陣列玻璃基板和彩膜玻璃基板對合而形成的。在陣列基板中相互交叉地配置定義像素區域的柵極線和信號線，在各像素區域中配置像素電極和薄膜晶體管。將驅動信號施加到柵極線上，圖像數據通過信號線施加到像素電極。在彩膜基板上配置黑底，使光不能透過除了像素電極以外的區域，在各像素區域配置濾色層，在此基礎上在配置公共電極。在陣列基板和彩膜基板中充入液晶，通過上述的加載驅動和信號的像素電極的電壓來控制液晶的偏轉來控制光線的強弱，配合彩膜基板的功能，在基板上顯示出所要表達的圖像。

其中，TFT陣列基板上的金屬線部分，是先在玻璃基板上涂覆金屬層，再在金屬層上涂覆光刻膠，然后通過掩膜板對光刻膠層進行曝光、顯影、刻蝕、剝離處理后而得。

在實現上述利用掩膜板對光刻膠層進行曝光的過程中，發明人發現現有技術中在對不同光刻膠層進行曝光時，每次都需要根據各層的曝光圖形更換對應的掩膜板，由此既增加了制造成本，也降低了生產效率。

發明內容

本發明實施例提供一種曝光方法、掩膜板及曝光設備，能夠利用一塊掩膜板對兩層光刻膠進行曝光，減少了制造成本，提高了生產效率。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

一種曝光設備，包括：承載基板的載臺；在所述載臺上方，與所述載臺平行地設有掩膜板；所述掩膜板與所述載臺之間設有透鏡裝置；第一照明光源，射出的光線從所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿過所述掩膜板，經由所述透鏡裝置射到所述載臺；

在所述掩膜板的下表面上，所述掩膜板的光吸收區域中設有光反射區域；

在所述透鏡裝置中設有光反射裝置；

第二照明光源，射出的光線通過所述透鏡裝置中的光反射裝置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射區域反射，經由所述透鏡裝置射到所述載臺。

一種掩膜板，包括完全透光區域和光吸收區域，在掩膜板面向基板的一側的光吸收區域中設有光反射區域。

一種曝光方法，包括：

將涂覆有第一光刻膠層的基板置于掩膜板的下方，所述基板與所述掩膜板平行；

開啟第一照明光源，光線從所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿過所述掩膜板的完全透光區域，經由透鏡裝置射到所述第一光刻膠層上；

關閉所述第一照明光源；

將涂覆有第二光刻膠層的基板置于所述掩膜板的下方，所述基板與所述掩膜板平行；

開啟第二照明光源，射出的光線通過所述透鏡裝置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射區域反射，再經由所述透鏡裝置射到所述第二光刻膠層上，其中，在所述掩膜板面向基板的一側的光吸收區域中設有光反射區域。

本發明提供的曝光設備、掩膜板及曝光方法，進行第一次曝光時，光線從掩膜板的上方垂直射到該掩膜板的上表面，穿過該掩膜板的完全透光區域后，射到下方的待曝光基板上；在進行第二次曝光時，不必更換掩膜板，使光線從該掩膜板下方垂直射到該掩膜板的下表面，由位于該掩膜板下表面的光反射區域反射到下方的待曝光基板上，從而實現利用一塊掩膜板對兩層光刻膠進行曝光。因此，進行曝光時不必如現有技術每次曝光都更換掩膜板，從而減少了掩膜板的設計、購買、維護費用，減少了制造成本，提高了生產效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現有技術中曝光設備的結構示意圖；

圖2為本發明實施例提供的曝光設備的結構示意圖；

圖3為從掩膜板5的上表面向下看的俯視圖；

圖4為從掩膜板5的下表面向上看的仰視圖；

圖5為本發明實施例提供的曝光方法的流程框圖。

具體實施方式