[發明專利]放射線敏感性樹脂組合物、液晶顯示用隔片或保護膜及其形成方法有效
| 申請號: | 201010167754.8 | 申請日: | 2010-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN101872123A | 公開(公告)日: | 2010-10-27 |
| 發明(設計)人: | 中川剛志;佐野有香;坂井孝廣 | 申請(專利權)人: | JSR株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所 11216 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放射線 敏感性 樹脂 組合 液晶顯示 用隔片 保護膜 及其 形成 方法 | ||
技術領域
本發明涉及放射線敏感性樹脂組合物、液晶顯示元件的隔片或保護膜及其形成方法。
背景技術
在液晶顯示元件中,為了使二塊基板間的間隔(盒間隙)保持一定,目前使用具有規定粒徑的玻璃珠、塑料珠等隔片粒子。這些隔片粒子隨機散布在玻璃基板等透明基板上,所以如果在形成像素區域存在隔片粒子,則具有產生映出隔片粒子的現象,入射光散射,液晶面板的對比度降低這樣的問題。因此,為了解決這些問題,采用的是通過使用放射線敏感性樹脂組合物的光刻法,在像素區域以外的區域形成隔片的方法(專利文獻1)。
液晶顯示元件具有在基板上形成的濾色片上配置隔片,然后在其上配置具有對向電極的對向基板,在盒間隙配置液晶分子的結構。因此,為了在基板的全部區域保持盒間隙固定,隔片必須要有高度的膜厚均勻性。特別是,在近年的液晶顯示元件中,由于目前對畫質的高精度化和對高速動畫的隨動性(高速相應性)要求也增加,所以對膜厚均勻性的要求也越來越高。
此外,在制造液晶顯示元件時,從提高生產性、適應大型畫面的觀點出發,需要使玻璃基板的尺寸大型化。玻璃基板的尺寸經過300mm×400mm的第一代、370mm×470mm的第二代、620mm×750mm的第三代、960mm×1,100mm的第四代,1,100mm×1,300mm的第五代正成為主流。此外,今后更需要1,500mm×1,850mm的第六代、1,850mm×2,100mm的第七代、2,200mm×2,600mm的第八代這樣的大型的基板尺寸。
在基板尺寸型號小,例如為370mm×470mm以下時,通過旋涂法涂敷,但是在該方法中,必須涂敷大量的放射線敏感性樹脂組合物溶液,而且還無法適應對大型基板的涂敷。另外,在基板尺寸為960mm×1,100mm以下時,通過狹縫和旋涂法涂敷,但是難以適應第五代以后的基板尺寸。
適應第五代以后的基板尺寸的涂敷方式適合使用從狹縫狀噴嘴噴出組合物進行涂敷的所謂的狹縫涂敷法(專利文獻2和3)。該狹縫涂敷法和旋轉涂敷法相比,具有可以降低涂敷所要求的組合物的量的優點,有助于削減液晶顯示元件的制造成本。然而,該狹縫涂敷法具有如下問題:將基板真空吸附,進而在通過微小的銷支撐基板的幾點的狀態下,從一定方向掃過涂敷噴嘴,形成涂膜,所以在涂膜中產生真空吸附的孔引起的稱作“臺式真空吸附斑”的斑點、支撐銷引起的稱作“支撐銷斑”的斑點、在涂敷噴嘴掃過的方向出現的條狀的稱作“豎條斑”的斑點等,成為實現上述高度平坦型的阻礙。
此外,從進一步削減液晶顯示元件的制造成本的觀點出發,強烈要求減少涂敷要用的組合物的液體量(節約液體)。
【現有技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開2001-261761號公報
【專利文獻2】日本特開2006-184841號公報
【專利文獻3】日本特開2001-25645號公報
發明內容
本發明是基于上述問題提出的,其目的在于即使采用狹縫涂敷法作為涂敷方法時,也不會在涂膜上產生微小凹凸形成的斑點,狹縫涂敷時可以高速涂敷,可以節約放射線敏感性樹脂組合物的溶液。
此外,還提供能以高靈敏度形成液晶顯示元件的隔片或保護膜的放射線敏感性樹脂組合物,作為液晶顯示元件的隔片或保護膜,可以保持目前要求的耐摩擦性,同時兼具高回復率和柔韌性的壓縮性能,特別是具有高度的膜厚均勻性的液晶顯示元件的隔片或保護膜及其形成方法。
根據本發明,本發明的上述目的和優點,第一是一種放射線敏感性樹脂組合物,其特征在于,包含:
(A)100質量份堿可溶性樹脂,該堿可溶性樹脂是5~60質量%(a1)和40~95質量%(a2)的共聚物,其中(a1)是選自一元羧酸、二元羧酸和二元羧酸酐的化合物,(a2)是選自(甲基)丙烯酸的羥基烷基酯、(甲基)丙烯酸的二羥基烷基酯或(甲基)丙烯酸的(6-羥基己酰氧基)烷基酯、具有環氧基的不飽和化合物、(甲基)丙烯酸環烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸芳烷基酯、不飽和二元羧酸二烷基酯、具有含氧5元雜環或含氧6元雜環的(甲基)丙烯酸酯、乙烯基芳香族化合物和共軛二烯化合物的至少1種化合物;
(B)30~250質量份聚合性不飽和化合物;
(C)1~60質量份放射線敏感性聚合引發劑;以及
(D)下式(1)所示的R1和R2是碳原子數為4或5的直鏈狀或支鏈狀的烷基的溶劑,該溶劑相對于放射線敏感性樹脂組合物中的全部溶劑的量為5質量%~90質量%。
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