[發明專利]放射線敏感性樹脂組合物、液晶顯示用隔片或保護膜及其形成方法

有效

• 申請號: 201010167754.8
• 申請日: 2010-04-22
• 公開（公告）號: CN101872123A
• 公開（公告）日: 2010-10-27
• 發明（設計）人: 中川剛志;佐野有香;坂井孝廣
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/027
• 分類號: G03F7/027;G02F1/1339
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

1.一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，包含：

(A)100質量份堿可溶性樹脂，該堿可溶性樹脂是5～60質量％(a1)與40～95質量％(a2)的共聚物，其中(a1)是選自一元羧酸、二元羧酸和二元羧酸酐的化合物，(a2)是選自(甲基)丙烯酸的羥基烷基酯、(甲基)丙烯酸的二羥基烷基酯或(甲基)丙烯酸的(6-羥基己酰氧基)烷基酯、具有環氧基的不飽和化合物、(甲基)丙烯酸環烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸芳烷基酯、不飽和二元羧酸二烷基酯、具有含氧5元雜環或含氧6元雜環的(甲基)丙烯酸酯、乙烯基芳香族化合物和共軛二烯化合物的至少1種化合物；

(B)30～250質量份聚合性不飽和化合物；

(C)1～60質量份放射線敏感性聚合引發劑；以及

(D)下式(1)所示的R₁和R₂是碳原子數為4或5的直鏈狀或支鏈狀的烷基的溶劑，該溶劑相對于放射線敏感性樹脂組合物中的全部溶劑的量為5質量％～90質量％；

R₁-O-R₂??(1)。

2.根據權利要求1所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于：包含選自二甘醇二烷基醚類、丙二醇烷基醚乙酸酯類、酮類、酯類溶劑的至少一種以上的(E-1)溶劑，和上式(1)的溶劑。

3.根據權利要求1所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于：包含選自醇類、二醇醚類、乙二醇烷基醚乙酸酯類、二甘醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇烷基醚丙酸酯類的1種以上的(E-2)溶劑，和上式(1)的溶劑。

4.根據權利要求2所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于：(E-1)溶劑是選自二甘醇乙基甲基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、環己酮的一種以上的溶劑。

5.根據權利要求3所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于：(E-2)溶劑是選自苯甲醇、乙二醇單丁基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇二乙基醚、二丙二醇二甲基醚、丙二醇甲基醚丙酸酯的一種以上的溶劑。

6.根據權利要求1所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于：(A)堿可溶性樹脂是具有環氧基或(甲基)丙烯酰氧基的共聚物。

7.根據權利要求6所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于：(C)放射線敏感性聚合引發劑的一種是O-酰基肟化合物。

8.根據權利要求1～7任一項所記載的放射線敏感性樹脂組合物，其用于形成液晶顯示元件的隔片或保護膜。

9.由權利要求8所記載的放射線敏感性樹脂組合物形成的液晶顯示元件的隔片或保護膜。

10.一種液晶顯示元件用隔片或保護膜的形成方法，其特征在于：至少包括以下順序記載的以下工序，

(1)在基板上涂敷權利要求8記載的放射線敏感性樹脂組合物形成涂膜的工序，

(2)對該涂膜的至少一部分曝光的工序，

(3)將曝光后的涂膜顯影的工序，以及

(4)將顯影后的涂膜加熱的工序。