[發明專利]一種精密拋光晶片用有機物清洗液

無效

• 申請號: 201010162447.0
• 申請日: 2010-04-28
• 公開（公告）號: CN102234595A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 惠峰;趙有文;朱蓉輝;高永亮
• 申請（專利權）人: 云南中科鑫圓晶體材料有限公司
• 主分類號: C11D7/26
• 分類號: C11D7/26;C11D7/50
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 湯保平

技術領域

本發明涉及清洗液技術領域，特別是一種適用于精密拋光晶片的有機物去除清洗液。

背景技術

由于精密拋光晶片表面由于材料本身的表面物理性質非常容易吸附來自周圍環境和清洗液中的各種雜質和顆粒，而且吸附力很強，吸附后某些吸附物很難通過其他清洗手段去掉而造成廢品和產品質量下降。以往常規的有機物去除需要使用多種有機溶劑，一步步依次接觸不同的有機溶劑來達到去除有機物的清洗效果，這種方式步驟較多，工藝麻煩效率較低，同時容易帶來由于清洗液本身的物理性質和精密拋光表面的相互作用容易使精密拋光晶片表面容易吸附來自周圍環境尤其是清洗液里的雜質和污染物，使得在晶片的某些地方出現聚集的可以觀察到的污染物聚集現象，表現晶片表面為灰色云霧狀膜、晶片表面不親水等等現象，某些材料的拋光晶片可以通過后段的清洗工藝來去除這些吸附物，某些材料卻由于吸附力太強，或者由于時間關系吸附物會同材料本身發生作用等等原因無法完全去除這些污染物，為了減輕這種現象可以選用純度很高的有機溶劑和減少使用次數增加用量等方法來改善，但是都會增加成本和工藝的復雜性。

隨著對晶片表面質量、加工效率以及成本的要求的不斷提高，同時為了避免某些吸附帶來的不可預知的影響，這種常規的有機物去除方法顯得不太適合。

發明內容

本發明提出的一種混合有機溶劑清洗液，使用了一種由兩種常規有機溶劑混合組成的清洗液對精密拋光表面進行一次性有機物清洗，代替了以前的使用多種單一有機溶劑逐一對精密拋光表面進行有機物去除，取得了更加理想的有機物去除效果，提高了清洗流程的效率，縮短了加工時間。同時在不增加清洗液使用量以及提高試劑純度的情況下使得晶片表面吸附物大大減少，保持了晶片表面潔凈的狀態。

一種適用于精密拋光晶片的有機物清洗液，其特征在于，該有機物清洗液由醚和醇兩種有機溶劑組成。

所述的有機物清洗液，醚在混合液中所占重量含量為5％到95％，醇所占重量含量為95％到5％。

所述的有機物清洗液，其中醚由下列中選出：甲醚、乙醚、乙二醚、丙醚、丁醚、異丙醚、乙丙醚、苯甲醚、石油醚。

所述的有機物清洗液，其中醚為石油醚。

所述的有機物清洗液，其中醇由下列選出：甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、異丙醇、丁醇、正丁醇、丙醇、正丙醇、正戊醇、異戊醇。

所述的有機物清洗液，其中醇含有三個以下的羥基。

所述的有機物清洗液，其中醇含有一個羥基。

所述的有機物清洗液，其中醇為異丙醇。

具體實施方式

使用重量比例為1∶1的石油醚和異丙醇有機溶液應用到砷化鎵晶片精密拋光以后的，最終清洗以前的有機物去除工藝中，很好的避免了此類晶片在以往的有機物清洗流程中出現表面吸附清洗液中的各種污染物導致表面質量下降的問題。

本發明提供一種適用于精密拋光晶片的有機物清洗液，其特征在于，該有機物清洗液由醚和醇兩種有機溶劑組成。

其中醚在混合液中所占重量含量為5％到95％，醇所占重量含量為95％到5％。

其中醚由下列中選出：甲醚、乙醚、乙二醚、丙醚、丁醚、異丙醚、乙丙醚、苯甲醚、石油醚。

其中醚為石油醚。

其中醇由下列選出：甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、異丙醇、丁醇、正丁醇、丙醇、正丙醇、正戊醇、異戊醇。

其中醇含有三個以下的羥基。

其中醇含有一個羥基。

其中醇為異丙醇。

雖然本發明是已參照實施例來加以描述，然本發明創作并未受限于其詳細描述內容。替換方式及修改樣式是已于先前描述中所建議，且其它替換方式及修改樣式將為熟習此項技術的人士所思及。特別是，所有具有實質上相同于本發明的構件結合而達成與本發明實質上相同結果的，皆不脫離本發明的精神范疇。因此，所有此等替換方式及修改樣式是意欲落在本發明于所附的權利要求范圍及其均等物所界定的范疇之中。