[發(fā)明專利]一種精密拋光晶片用有機物清洗液無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010162447.0 | 申請日： | 2010-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN102234595A | 公開（公告）日： | 2011-11-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 惠峰;趙有文;朱蓉輝;高永亮 | 申請（專利權）人： | 云南中科鑫圓晶體材料有限公司 |
| 主分類號： | C11D7/26 | 分類號： | C11D7/26;C11D7/50 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 湯保平 |
| 地址： | 650031 云南*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 精密 拋光 晶片 有機物 清洗 | ||
【權利要求書】：
1.一種適用于精密拋光晶片的有機物清洗液，其特征在于，該有機物清洗液由醚和醇兩種有機溶劑組成。
2.根據(jù)權利要求1所述的有機物清洗液，其特征在于，醚在混合液中所占重量含量為5％到95％，醇所占重量含量為95％到5％。
3.根據(jù)權利要求2所述的有機物清洗液，其特征在于，其中醚由下列中選出：甲醚、乙醚、乙二醚、丙醚、丁醚、異丙醚、乙丙醚、苯甲醚、石油醚。
4.根據(jù)權利要求2所述的有機物清洗液，其特征在于，其中醚為石油醚。
5.根據(jù)權利要求2所述的有機物清洗液，其特征在于，其中醇由下列選出：甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、異丙醇、丁醇、正丁醇、丙醇、正丙醇、正戊醇、異戊醇。
6.根據(jù)權利要求2所述的有機物清洗液，其特征在于，其中醇含有三個以下的羥基。
7.根據(jù)權利要求2所述的有機物清洗液，其特征在于，其中醇含有一個羥基。
8.根據(jù)權利要求2所述的有機物清洗液，其特征在于，其中醇為異丙醇。?
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