[發明專利]具有使用場傳感器的調節系統的微波爐有效
| 申請號: | 201010157439.7 | 申請日: | 2010-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN101860996A | 公開(公告)日: | 2010-10-13 |
| 發明(設計)人: | N·尤爾夫;N·奧爾;H·弗雷德里克;C·哈坎 | 申請(專利權)人: | 惠而浦有限公司 |
| 主分類號: | H05B6/68 | 分類號: | H05B6/68;H05B6/80 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 崔幼平 |
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 使用 傳感器 調節 系統 微波爐 | ||
1.一種微波加熱設備(100),包括:
適于接收待加熱負載的腔(150);
連接到所述腔的至少兩個微波源(110、112),用于分別經由至少兩個供給口(120、122)將微波能量供給到所述腔中;
適于測量所述腔中的微波能量的場強的至少兩個場傳感器(160、162),其中,第一場傳感器(160)布置在第一位置處,用于測量代表從第一供給口(120)供給的模式的場強,第二場傳感器(162)布置在第二位置處,用于測量代表從第二供給口(122)供給的模式的場強;以及
控制單元(180),所述控制單元連接到所述微波源并適于根據所測量到的場強來調節所述微波源。
2.如權利要求1所述的微波加熱設備,其特征在于,所述第一場傳感器布置在所述腔的與從所述第一供給口供給的模式的最大場強對應的區域中,所述第二場傳感器布置在所述腔的與從所述第二供給口供給的模式的最大場強對應的區域中。
3.如權利要求1或2所述的微波加熱設備,其特征在于,從所述第一供給口供給的模式是熱中心模式,而從所述第二供給口供給的模式是冷中心模式。
4.如前述權利要求中的任一項所述的微波加熱設備,其特征在于,所述控制單元適于調節所述微波源,以便經由所述供給口將微波順序供給到所述腔中。
5.如前述權利要求中的任一項所述的微波加熱設備,其特征在于,針對工作周期,所述控制單元適于調節以下各項中的至少一個:經由所述供給口將微波順序供給到所述腔中的次序;所述微波源在所述工作周期的一部分期間的工作時間;由所述微波源中的至少一個微波源產生的微波的頻率;和所述微波源中的至少一個微波源的輸出功率水平。
6.如前述權利要求中的任一項所述的微波加熱設備,其特征在于,還包括布置在所述腔的第三位置處的至少一個額外的傳感器(164),用于測量代表從所述第一供給口或所述第二供給口供給的模式中的一個的場強。
7.如權利要求6所述的微波加熱設備,其特征在于,所述額外的傳感器布置在所述腔的與從所述第一供給口或所述第二供給口供給的模式的最小場強對應的區域中。
8.如前述權利要求中的任一項所述的微波加熱設備,其特征在于,還包括測量單元(166),用于測量從所述腔反射的、作為與所述第一供給口或所述第二供給口中的其中一個相關聯的微波源的工作頻率的函數的信號。
9.如權利要求1-3中的任一項所述的微波加熱設備,其特征在于,所述控制單元適于調節所述微波源,以便將微波同時供給到所述腔中。
10.如權利要求9所述的微波加熱設備,其特征在于,所述控制單元適于調節包括以下參數的組中的至少一個參數:由所述微波源中的至少一個微波源產生的微波的頻率、功率和相位。
11.如前述權利要求中的任一項所述的微波加熱設備,其特征在于,所述控制單元適于調節所述微波源,使得所測得的場強之間的差值低于預定值、包括在預定范圍內或保持不變。
12.一種使用分別通過至少兩個供給口(120、122)從至少兩個微波源(110、112)供給到腔(150)中的微波來加熱布置在所述腔中的負載的方法,所述方法包括:
在第一位置處和在第二位置處測量(610)腔中的微波能量的場強,其中在第一位置處測量腔中的微波能量的場強用以測量代表從第一供給口(120)供給的模式的場強,而在第二位置處測量腔中的微波能量的場強用以測量代表從第二供給口(122)供給的模式的場強;以及
根據所測得的場強調節(620)所述微波源。
13.如權利要求12所述的方法,其特征在于,對包括以下參數的組中的至少一個參數進行調節:由所述微波源中的至少一個微波源產生的微波的頻率、輸出功率水平、在工作周期的一部分期間的工作時間、和相位。
14.如權利要求12或13所述的方法,其特征在于,所述微波源同時或順序地工作。
15.如權利要求12-14中的任一項所述的方法,還包括:
對于從與工作周期的兩個相繼部分之間的場強變化被識別出的位置之一對應的供給口供給的微波,測量(630)從所述腔反射的信號;和/或
判斷(640)從所述供給口之一供給的模式是否發生了失真。
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