[發(fā)明專利]一種超低溫紅釉助劑的制備方法與施釉工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010156660.0 | 申請日： | 2010-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN102234202A | 公開（公告）日： | 2011-11-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 胡澤善;劉閣;蔡強;馮永成 | 申請（專利權(quán)）人： | 重慶工商大學(xué) |
| 主分類號： | C04B41/86 | 分類號： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 400067*** | 國省代碼： | 重慶;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 超低溫 助劑 制備 方法 工藝 | ||
1.一種超低溫紅釉助劑的制備方法與施釉工藝，其特征在于助劑組成包括：
(1)采用納米氧化硅作助熔劑；
(2)采用聚酰胺類、聚烯醇類以及聚乙二醇類有機高分子增黏；
(3)采用二次甲基萘磺酸鈉作觸變性控制劑；
(4)采用偏硅酸鎂調(diào)節(jié)釉料高溫流動性；
(5)采用硼酐作為釉料熱膨脹系數(shù)調(diào)控劑；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑，其特征在于氧化硅作助熔劑的粒子大小在2-10納米，其在所述的超低溫紅釉助劑中的重量含量為30-60％之間(固含量，下同)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑，其特征在于高分子增黏劑可以是聚酰胺類、聚烯醇類以及聚乙二醇類，其在助劑中的含量在4-33％之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑，其特征在于采用二次甲基萘磺酸鈉作觸變性控制劑，其在助劑中的含量在1.5-8.0％之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑，其特征在于采用偏硅酸鎂調(diào)節(jié)釉料高溫流動性，其在助劑中的含量在5-15％之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑，其特征在于采用硼酐作為釉料熱膨脹系數(shù)調(diào)控劑，其在助劑中的含量在12-36％之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑及施釉方法，其特征在于施釉過程中，超低溫紅釉助劑的重量占紅釉的8-15％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低溫紅釉助劑及施釉方法，施釉過程中，紅釉與紅釉助劑的總重量在釉將中占37-41％。
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