[發明專利]光刻裝置和器件制造方法

有效

• 申請號: 201010156464.3
• 申請日: 2004-05-31
• 公開（公告）號: CN101866114A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: B·斯特雷克;M·M·T·M·蒂里奇斯;W·F·J·格霍-范安塞姆
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種光刻投影裝置，包括：

用于提供投影輻射光束的輻射系統；

用于支承圖案形成裝置的支承結構，圖案形成裝置用來按照所希望的圖案使投影輻射光束形成圖案；

用于夾持基底的基底臺；

用于將形成圖案的輻射光束投影到基底的目標部分上的投影系統；及

用于以液體充填所述投影系統的終端元件和所述基底之間的空間的液體供應系統，其特征在于：

所述液體是一種具有小于6.5的pH值的水溶液。

2.按照權利要求1所述的光刻投影裝置，其中所述液體具有6或以下的pH值。

3.按照權利要求1所述的光刻投影裝置，其中所述液體具有5或以下的pH值。

4.按照權利要求1所述的光刻投影裝置，其中，所述形成圖案的輻射光束具有193nm或248nm的波長。

5.按照權利要求1所述的光刻投影裝置，其中，所述液體包括至少99％重量百分比的水。

6.一種器件制造方法，包括以下步驟：

提供至少部分被輻射敏感材料層覆蓋的基底；

利用輻射系統提供投影輻射光束；

利用圖案形成裝置在投影輻射光束的橫截面上賦予圖案；

將形成圖案的輻射光束投影到輻射敏感材料層的目標部分上；以及

提供液體以充填在所述投影步驟中所使用的投影系統的終端元件和所述基底之間的空間，其特征在于：

所述液體是一種具有小于6.5的pH值的水溶液。

7.根據權利要求6所述的器件制造方法，其中，所述形成圖案的輻射光束具有193nm或248nm的波長。

8.根據權利要求6所述的器件制造方法，其中，

所述液體具有6或以下的pH值；

所述液體包括至少99％重量百分比的水；以及

所述形成圖案的輻射光束具有193nm的波長。

9.一種器件制造方法，包括以下步驟：

向浸沒液體中添加抗反射外涂層形成酸化浸沒液體；

利用液體供應系統向投影系統和基底之間的空間供給酸化浸沒液體，以填充基底和投影系統的終端元件之間的空間；以及

穿過投影系統和酸化浸沒液體投射形成圖案的輻射光束到基底的目標部分上以對該目標部分進行曝光；

其中，所述液體供應系統包括：

沿著投影系統的終端元件和基底臺之間的空間的至少一部分邊界延伸的密封件，所述密封件相對于投影系統固定；以及

用于在所述密封件和所述基底的表面之間形成氣體密封的氣體密封件；

所述液體是具有小于7的pH值的水溶液。