[發明專利]基于非均勻空間立體陣列分布式SAR的雜波抑制方法無效
| 申請號: | 201010153675.1 | 申請日: | 2010-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN101813765A | 公開(公告)日: | 2010-08-25 |
| 發明(設計)人: | 劉梅;張雷;林超;陳錦海;張生杰 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | G01S7/02 | 分類號: | G01S7/02;G01S13/90 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 張宏威 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 均勻 空間 立體 陣列 分布式 sar 抑制 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種雜波抑制方法。
背景技術
雜波抑制是GMTI(地面動目標檢測)技術的一個關鍵性環節,現有的STAP(空時自適應處理)技術在雜波抑制方面應用較廣,它具有很好的雜波對消性能,但傳統的基于均勻線陣的2D-STAP技術都是假定雜波環境是均勻的,它要求訓練樣本和待檢測樣本中的干擾是獨立同分布的,這樣才能使用其它距離門的樣本來準確估計待檢測距離門中干擾的統計特性,實現對雜波等干擾的有效抑制。
然而,雷達面臨的實際雜波環境常常是非均勻的,而傳統的STAP方法無法對隨俯仰角變化的非均勻雜波進行有效地抑制;同時,傳統的STAP方法只能應用于均勻直線陣列,當若線陣中陣元過多時,該方法的計算量會增加,可靠性也會降低,且陣元幅相誤差不可避免,這會成為制約一維處理性能的重要因素。由于存在陣元幅相誤差時,各列子陣俯仰方向圖是俯仰角的函數,即各列子陣俯仰方向圖不再一致,而一維采樣僅控制多普勒域與方位域,而無法控制各列子陣俯仰角,因而也就無法避免這種由于列子陣俯仰角不一致造成的影響。
Phillip?M.?Corbell,?Michael?A.?Temple,?and?Todd?B.?Hale.?Forward-Looking?Planar?Array?3D-STAP?Using?Space?Time?Illumination?Patterns?(STIP).?In?1-4244-0309-X/06/2006?IEEE,?602-606,這篇文章給出了基于均勻面陣的3D-STAP技術,但是只是解決針對基于均勻面陣的雜波抑制,而不能解決針對基于均勻空間陣列的雜波抑制,而且該文中的雜波抑制技術仍然存在如掃描區域受限、雜波模型建立復雜、陣列流形限制嚴格等缺陷。
發明內容
本發明的目的是解決現有的STAP方法只適合于均勻直線陣列或均勻面陣的雜波抑制,而不適用于非均勻空間陣列的雜波抑制的問題,提供了一種基于非均勻空間立體陣列分布式SAR的雜波抑制方法。
基于非均勻空間立體陣列分布式SAR的雜波抑制方法,它的具體過程如下:
步驟一、根據非均勻分布式SAR的實際空間分布,建立一個基于X-Y-Z坐標系的非均勻空間立體陣列流形;
步驟二、利用基于俯仰維劃分的二次陣列插值信號重構方法,對步驟一建立的非均勻空間立體陣列流形進行信號重構,獲得均勻空間立體陣列流形;
步驟三、根據步驟二獲得的均勻空間立體陣列流形,計算并獲得雜波的各維多普勒頻率,進而獲得所述均勻空間立體陣列流形的雜波模型;
步驟四、根據所述均勻空間立體陣列流形的雜波模型、各維多普勒頻率及全空時自適應處理方法,構建全空時自適應濾波器,進而對SAR實際接收的空時采樣信號進行雜波抑制。
本發明適用于非均勻空間陣列的雜波抑制領域,特別適用于非均勻空間立體陣列分布式SAR的雜波抑制,能夠對其進行有效地雜波抑制。
附圖說明
圖1為非均勻空間立體陣列流形的示意圖;圖2為均勻空間立體陣列流形的示意圖;圖3是均勻空間立體陣列流形在X-Y坐標面的投影圖。
具體實施方式
?具體實施方式一:本實施方式的基于非均勻空間立體陣列分布式SAR的雜波抑制方法,它的具體過程如下:
步驟一、根據非均勻分布式SAR的實際空間分布,建立一個基于X-Y-Z坐標系的非均勻空間立體陣列流形;
步驟二、利用基于俯仰維劃分的二次陣列插值信號重構方法,對步驟一建立的非均勻空間立體陣列流形進行信號重構,獲得均勻空間立體陣列流形;
步驟三、根據步驟二獲得的均勻空間立體陣列流形,計算并獲得雜波的各維多普勒頻率,進而獲得所述均勻空間立體陣列流形的雜波模型;
步驟四、根據所述均勻空間立體陣列流形的雜波模型、各維多普勒頻率及全空時自適應處理方法,構建全空時自適應濾波器,進而對SAR實際接收的空時采樣信號進行雜波抑制。
其中,SAR為英文Synthetic?Aperture?Radar的縮寫,指合成孔徑雷達。
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