[發明專利]電解退除碳化鉻膜層的退鍍液及方法

無效

• 申請號: 201010151258.3
• 申請日: 2010-04-20
• 公開（公告）號: CN102234833A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 黃巍;司國春;宮紅麗
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: C25F5/00
• 分類號: C25F5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：該退鍍液為含有堿、促進劑和輔助劑的水溶液，其中所述堿為可溶性堿金屬氫氧化物，堿的濃度為20～200g/L；該促進劑為與鉻離子有絡合作用的絡合劑，該促進劑的濃度為20～150g/L；該輔助劑為可溶性聚磷酸鹽類化合物，輔助劑的濃度為0.5～10g/L。

2.如權利要求1所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述堿為氫氧化鈉和氫氧化鉀中的一種或其組合。

3.如權利要求1所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述堿的濃度為50～100g/L。

4.如權利要求1所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述促進劑為酒石酸鉀鈉、葡萄糖酸鈉、檸檬酸鈉及乙二胺四乙酸中的一種或幾種的混合物。

5.如權利要求4所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述促進劑為葡萄糖酸鈉與檸檬酸鈉或者葡萄糖酸鈉與乙二胺四乙酸的混合物。

6.如權利要求1所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述促進劑的濃度為40～100g/L。

7.如權利要求1所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述輔助劑為三聚磷酸鈉及五聚磷酸鈉中的一種或其組合。

8.如權利要求1所述的碳化鉻膜層的退鍍液，其特征在于：所述輔助劑的濃度2～8g/L。

9.一種電解退除碳化鉻膜層的方法，包括以下步驟：將形成有碳化鉻膜層的基材浸置于50～95的退鍍液中，并以該退鍍液作為電解液，以該形成有碳化鉻膜層的基材作為陽極，用1～10A/dm²的電流密度進行電解，使該碳化鉻膜層退除；將退鍍后的基材進行洗滌及干燥；其中該退鍍液為如權利要求1～9任意一項所述的退鍍液。

10.如權利要求9所述的電解退除碳化鉻膜層的方法，其特征在于：所述電流密度為4～7A/dm²。

11.如權利要求9所述的電解退除碳化鉻膜層的方法，其特征在于：所述退鍍液的溫度為60～70℃，電解時間為3～8分鐘。

12.如權利要求9所述的電解退除碳化鉻膜層的方法，其特征在于：所述基材為鐵基金屬、銅、銅合金及塑料中的一種。