[發明專利]電解退除碳化鉻膜層的退鍍液及方法

無效

• 申請號: 201010151258.3
• 申請日: 2010-04-20
• 公開（公告）號: CN102234833A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 黃巍;司國春;宮紅麗
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: C25F5/00
• 分類號: C25F5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種電解退除基材表面碳化鉻膜層的退鍍液及利用該退鍍液電解退除碳化鉻膜層的方法。

背景技術

鍍膜工藝在工業領域有著廣泛的應用。然而，通常在以下兩種情況下需要對鍍膜進行退除：(1)經過長期使用后，工件表面的鍍膜已經被損傷或者嚴重老化，從而需要去除鍍層，重新鍍覆；(2)在生產中，所鍍覆的鍍層不符合品質要求，為減少損失，節約成本，需要退掉鍍層，讓工件返工重新鍍膜。因此，如何在不損傷基材的情況下，將鍍層從基材表面完全除去是工業生產中的一個重要問題。

碳化鉻(Cr₃C₂)膜是一種性能優良的鉻系鍍層，其與鉻系鍍層中最常用的氮化鉻(Cr₂N)膜相比具有更強的抗氧化、抗腐蝕性，而且硬度更高，耐磨性能也更好，在工業領域具有廣闊的前景。現有的對碳化鉻膜電解退鍍的方法是采用只含有單一的堿金屬氫氧化物(如氫氧化鈉)的退鍍液，該單一成分的退鍍液穩定性差，采用該退鍍液不能穩定進行電解退鍍，使得碳化鉻膜不能有效地、完全地退除，而且，還容易損傷基材。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種不損傷基材前提下，能穩定、有效地退除碳化鉻膜層的退鍍液。

另外，還有必要提供一種使用上述退鍍液電解退除碳化鉻膜層的方法。

一種碳化鉻膜層的退鍍液，該退鍍液為含有堿、促進劑和輔助劑的水溶液，其中所述堿為可溶性堿金屬氫氧化物，堿的濃度為20～200g/L；該促進劑為與鉻離子有絡合作用的絡合劑，該促進劑的濃度為40～150g/L；該輔助劑為可溶性聚磷酸鹽類化合物，輔助劑的濃度為0.5～10g/L。

一種電解退除碳化鉻膜層的方法，包括：將形成有碳化鉻膜層的基材浸置于50～95℃的退鍍液中，并以該退鍍液作為電解液，以該形成有碳化鉻膜層的基材作為陽極，用1～10A/dm²的電流密度進行電解，使該碳化鉻膜層退除；將退鍍后的基材進行洗滌及干燥；其中該退鍍液為本發明所述的退鍍液。

相較于現有技術，所述碳化鉻膜層的退鍍液及電解退除碳化鉻膜層的退除方法使退膜后基材表面沒有受到腐蝕，且能穩定、有效地退除碳化鉻膜層。

具體實施方式

本發明的退鍍液適用于退除形成于基材表面的碳化鉻膜層。所述基材包括鐵基合金(如不銹鋼)、銅、銅合金及塑料。

本發明的退鍍液為含有堿、促進劑和輔助劑的水溶液。其中所述堿可以為可溶性堿金屬氫氧化物，例如，可以為氫氧化鈉和氫氧化鉀中的一種或其組合。該堿的濃度可以為20～200g/L，優選為50～100g/L。所述堿在退鍍液中起導電作用，同時提供堿性環境，使碳化鉻膜層中的鉻能夠溶解于退鍍液中。

該促進劑為可以與鉻離子有絡合作用的絡合劑，如可以為酒石酸鉀鈉、葡萄糖酸鈉、檸檬酸鈉及乙二胺四乙酸(EDTA)等化合物中的一種或幾種的混合物，優選為葡萄糖酸鈉與檸檬酸鈉或者葡萄糖酸鈉與乙二胺四乙酸(EDTA)的混合物。促進劑的濃度為20～150g/L，優選為40～100g/L。碳化鉻膜層中的鉻溶解于退鍍液后，與促進劑發生絡合作用形成絡合物，因此有利于碳化鉻膜層中的鉻的持續溶解。

輔助劑可以為可溶性聚磷酸鹽類化合物，例如可為三聚磷酸鈉及五聚磷酸鈉中的一種或其組合，優選為五聚磷酸鈉。輔助劑的濃度為0.5～10g/L，優選為2～8g/L。輔助劑有利于加強電解完成后對基材的洗滌效果，可使附著于基材上的退鍍液更快、更完全地被清洗干凈，以避免殘留退鍍液對基材的腐蝕。

該退鍍液可以通過將上述堿、促進劑及輔助劑溶于水制得。

利用上述退鍍液退除基材上的碳化鉻膜層的方法包括，將退鍍液加熱至50～95℃，將形成有碳化鉻膜層的基材浸置于退鍍液中，并以該退鍍液作為電解液，以該形成有碳化鉻膜層的基材作為陽極，以不銹鋼板或碳板作為陰極，用1～10A/dm2的電流密度進行電解，使該碳化鉻膜層完全退除。所述電流密度優選4～7A/dm2。退鍍后，將基材進行洗滌及干燥。

下面通過實施例對本發明進一步詳細說明。

實施例1

1.配制退鍍液

將70g氫氧化鈉緩慢溶解于500ml去離子水中，然后加入50g檸檬酸鈉、30g葡萄糖酸鈉、2g五聚磷酸鈉，完全溶解后補去離子水使溶液體積為1L，得到退鍍液。

2.電解退除碳化鉻膜層