[發明專利]噴涂系統及方法有效
| 申請號： | 201010149496.0 | 申請日： | 2010-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN102059197A | 公開（公告）日： | 2011-05-18 |
| 發明（設計）人： | 薛家皓;趙元俊;鄧國星;陳朝禎 | 申請（專利權）人： | 采鈺科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B05C11/06 | 分類號： | B05C11/06;B05C11/10;B05B13/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 姜燕;邢雪紅 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 噴涂 系統 方法 | ||
1.一種噴涂系統，包括：
一旋轉支持構件，用以支持及旋轉一基板；
一噴涂器，用以涂布一材料至該基板的上表面；
一杯狀結構，圍繞該旋轉支持構件的側邊及底部區域，其中該杯狀結構的頂部具有一開口；
一氣體供應裝置，用以提供多個氣流至該基板的下表面以防止該材料附著至該基板的下表面，以及
一排氣裝置，設置于該杯狀結構的一傾斜表面下方，用以排除所述多個氣流及材料。
2.如權利要求1所述的噴涂系統，還包括多個氣孔設置于一氣流通道的頂部，且所述多個氣孔的開口朝向該基板的下表面，其中所述多個氣流經由所述多個氣孔噴射至該基板的下表面。
3.如權利要求2所述的噴涂系統，其中所述多個氣孔以同心圓環狀圍繞該旋轉支援構件。
4.如權利要求1所述的噴涂系統，還包括一壓力裝置用以調整該氣流的壓力。
5.一種噴涂系統，包括：
一旋轉支持構件，用以支持及旋轉該基板；
一噴涂器，用以涂布一材料至該基板的上表面；
一杯狀結構，圍繞該旋轉支持構件的側邊及底部區域，其中該杯狀結構的頂部具有一開口；
多個氣孔，設置于一氣流通道的頂部且圍繞該旋轉支持構件，所述多個氣孔的開口朝向該基板的下表面；
一氣體供應裝置，用以提供多個氣流至該基板的下表面以防止該材料附著至該基板的下表面，以及
一排氣裝置，設置于該杯狀結構的一傾斜表面下方以排除所述多個氣流及材料。
6.如權利要求5所述的噴涂系統，其中所述多個氣孔以同心圓環狀排列，且該同心圓的直徑不大于該基板的直徑。
7.如權利要求5所述的噴涂系統，其中該旋轉支援構件包括一旋轉軸、一馬達、以及一支持部，且該旋轉軸受該氣流通道圍繞。
8.如權利要求5所述的噴涂系統，還包括一壓力裝置用以調整該氣流的壓力。
9.一種噴涂方法，包括
將一基板置于一旋轉支持構件上；
噴涂一材料至該基板的上表面，以及
噴射多個氣流至該基板的下表面，以防止該材料附著至該基板的下表面及/或移除附著至該基板下表面的材料。
10.如權利要求9所述的噴涂方法，其中所述多個氣流均勻地噴射至該基板的下表面。
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