[發明專利]光刻裝置和器件制造方法

有效

• 申請號: 201010144753.1
• 申請日: 2005-11-07
• 公開（公告）號: CN101794082A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: P·W·H·德賈格;C·-Q·桂;J·F·F·克林哈梅;E·霍貝里奇特斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王新華

1.一種光刻裝置，包括：

構圖系統，每一個構圖系統包括一個單獨可控元件的陣列；

投影系統，所述投影系統將來自構圖系統的一個或多個帶圖案的光束 投射到基底的目標部分上，所述投影系統包括一個透鏡陣列，使得該透鏡 陣列中的每個透鏡都朝向基底引導相應一條帶圖案的光束的相應部分；和

位移系統，所述位移系統引起基底和投影系統之間的相對位移，以使 得光束沿預定掃描方向在基底上進行掃描；

其中所述投影系統被設置以允許每條光束沿基底上的一系列重疊軌跡 中的相應一條軌跡進行掃描，從而使得每條軌跡包括：

一個僅被一條帶圖案的光束掃描的第一部分，和

至少一個與相鄰軌跡重疊的且被兩條帶圖案的光束掃描的第二部分，

其中朝向相應一條軌跡的第一部分引導的相應的每一條帶圖案的光束 的第一部分的最大強度大于朝向所述軌跡的第二部分引導的所述光束的第 二部分的最大強度，使得所述軌跡的第一部分和第二部分曝光于具有大體 上相同的最大強度的輻射中，且從鄰近所述軌跡相應一個第一部分的相應 一條軌跡的相應一個第二部分的一個邊緣到所述軌跡的相應一個第二部分 的另一邊緣逐漸減小相應一條帶圖案光束的第二部分的強度。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中：

相應的每一條帶圖案的光束由相應的光學元件列產生；

所述光學元件列沿垂直于掃描方向的方向分布在基底上；且

光學元件列中相鄰的光學元件列沿掃描方向存在偏移。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中：

所述帶圖案的光束中的至少兩條重疊的帶圖案的光束通過公共透鏡陣 列中的相應列透鏡被引導朝向基底；

所述列鄰近公共透鏡陣列；

所述列沿相對于掃描方向傾斜的方向延伸；并且

所述列在垂直于掃描方向的方向上隔開。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中每一個投影系統包括：

減弱裝置，通過所述減弱裝置傳送相應一條帶圖案的光束；

其中所述減弱裝置的至少一個周邊部分減弱一部分相應的帶圖案的光 束；并且

其中所述減弱裝置被設置以使得傳送通過該周邊部分的相應的帶圖案 的光束朝向相應一條軌跡的相應一個第二部分進行投射。

5.根據權利要求4所述的裝置，其中所述減弱裝置被設置在照射系統 和構圖系統之間或設置在構圖系統和基底之間。

6.一種器件制造方法，包括以下步驟：

a)利用相應的單獨可控元件的陣列提供圖案化的輻射光束；

b)將帶圖案的光束投射到基底的目標部分上；

c)致使基底和帶圖案的光束之間產生相對位移，以使得帶圖案的光束 沿預定掃描方向在基底上進行掃描；

d)相應每一條帶圖案的光束朝向基底被引導通過一個透鏡陣列，所述 陣列中的每一個透鏡引導相應部分的帶圖案的光束；

e)相應的每一條帶圖案的光束在基底上沿一系列軌跡中的相應一條軌 跡進行掃描；以及

f)使所述軌跡重疊，使得每一條軌跡包括一個僅被一條帶圖案的光束 掃描的第一部分和至少一個與所述軌跡中的相鄰軌跡重疊的且被兩條帶圖 案的光束掃描的第二部分，

其中，朝向一條軌跡的第一部分引導的每一條帶圖案的光束的第一部 分的最大強度大于朝向軌跡的第二部分引導的光束的第二部分的最大強 度，使得軌跡的第一部分和第二部分曝光于具有大體上相同的最大強度的 輻射中，且從鄰近所述軌跡相應一個第一部分的相應一條軌跡的相應一個 第二部分的一個邊緣到所述軌跡的相應一個第二部分的另一邊緣逐漸減小 相應一條帶圖案光束的第二部分的強度。

7.根據權利要求6所述的方法，進一步包括：利用沿垂直于掃描方向 的方向分布在基底上的相應的光學元件列產生所述帶圖案的光束，使得相 鄰的光學元件列沿掃描方向產生偏移。