[發明專利]光刻裝置和器件制造方法

有效

• 申請號: 201010144753.1
• 申請日: 2005-11-07
• 公開（公告）號: CN101794082A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: P·W·H·德賈格;C·-Q·桂;J·F·F·克林哈梅;E·霍貝里奇特斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王新華

本申請為于2005年11月7日遞交的申請號為200510120144.1、發明名 稱為“光刻裝置和器件制造方法”的中國發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種光刻裝置和器件制造方法。

背景技術

光刻裝置是一種將所需圖案應用于基底的目標部分上的裝置。光刻裝置 可以用于例如集成電路(IC)的制造，平板顯示器以及包括精細結構的其它 器件。在常規的光刻裝置中，構圖部件，可替換地稱作掩模或分劃板，可用 于產生對應于IC(或其它器件)一個單獨層的電路圖案，該圖案可以成像在 具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(例如硅晶片或玻璃板)的目標部分 (例如包括部分，一個或者多個管芯)上。代替掩模，該構圖部件可以包括 產生電路圖案的單獨可控元件的陣列。

一般地，單一的基底將包含依次曝光的相鄰目標部分的網格。已公知的 光刻裝置包括步進器，其中通過將全部圖案一次曝光在目標部分上而輻射每 一目標部分，還包括掃描器，其中通過投射光束沿給定方向(“掃描”方向) 掃描圖案、并同時沿與該方向平行或者反平行的方向同步掃描基底來輻射每 一目標部分。

一些光刻系統包括具有一個或多個光學元件列(例如光路)的掃描器。 常規的掃描器在單次掃描過程中不能使大面積基底曝光。其原因之一是難于 產生能夠使較大目標部分曝光的單個光學元件列。例如，所希望的是能夠在 尺寸大小為2米的面板上沿面板各邊緣制造出平板顯示器(FPD′s)，但是產 生能夠使延伸穿過大致這種圖案的整個寬度的目標部分曝光的單一光學元 件列是非常困難的。

解決這一問題的一種方法是利用一系列被布置成使得每一光學元件列 掃描基底上的相應軌跡的分開的光學元件列使整個長度的面板曝光。在這種 情況下，相鄰的軌跡相鄰接，從而使整個長度的面板曝光。不幸的是，難以 將分開的光學元件列相互間保持處于適當的位置，從而避免在相鄰軌跡之間 產生小的間隙或避免相鄰軌跡之間產生小的重疊。這種錯位能夠影響到所生 產的器件的功能，并且在生產FPD的情 況下，能夠在顯示器單上出現清晰可見的線條。

因此，需要能夠被用以在單次掃描過程中掃描大面積基底的光刻 系統和及其使用方法。

發明內容

根據本發明的一個實施例，提供一種包括照射系統、構圖系統、 投影系統、和位移系統的光刻裝置。所述照射系統提供輻射投射光束。 所述構圖系統對光束進行構圖。所述投影系統將帶圖案的光束投射到 基底的目標部分上。所述位移系統引起基底和投影系統之間的相對位 移，以使得光束沿預定方向在基底上進行掃描。每一個投影系統包括 一個透鏡陣列，排列使得所述陣列中的每一個透鏡朝向基底引導相應 光束的相應部分。每一個構圖系統包括一個受控以向相應光束傳遞所 需圖案的單獨可控元件的陣列。設置所述投影系統，使得每一條投射 光束在基底上沿一系列軌跡中的相應一條軌跡進行掃描。所述軌跡重 疊，使得每一條軌跡包括一個僅被一條投射光束掃描的第一部分和至 少一個與相鄰軌跡重疊的且被兩條投射光束掃描的第二部分。朝向軌 跡的第一部分引導的每一條投射光束的第一部分的最大強度大于朝向 軌跡的第二部分引導的投射光束的第二部分的最大強度，使得軌跡的 第一部分和第二部分曝光于具有大體上相同的最大強度的輻射中。

與非重疊區相比，通過在相鄰的掃描軌跡之間提供重疊部分并且 調節投射到所述重疊區上的輻射強度，能夠避免使單一軌道邊緣區域 的曝光強度產生大的階躍變化。由此，由不同光學引擎掃描的軌跡可 以使相鄰軌跡的相對位置之間的錯位的不利影響最小化的方式接合在 一起。