[發明專利]記錄設備

有效

• 申請號: 201010144738.7
• 申請日: 2010-03-29
• 公開（公告）號: CN101850656A
• 公開（公告）日: 2010-10-06
• 發明（設計）人: 加藤重己;伊藤孝治;日比學;大澤直勝
• 申請（專利權）人: 兄弟工業株式會社
• 主分類號: B41J2/045
• 分類號: B41J2/045
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 孫志湧;穆德駿

技術領域

本發明涉及一種具有被配置為傳送記錄介質的傳送裝置的記錄設備。

背景技術

如在以下專利文獻1中公開地，已知一項在記錄介質被吸引到傳送構件的同時向記錄頭傳送記錄介質的技術。在專利文獻1中公開的技術中，通過利用放置在傳送構件的一側上的電極，被放置在傳送構件的傳送表面上的記錄介質被吸引到傳送表面，其中傳送構件的所述一側與傳送構件的設置有傳送表面的另一側相反。還已知一項通過允許電流經過傳送構件并且對傳送構件充電而將記錄介質吸引到傳送構件的技術。

專利文獻1：日本專利No.2718626

發明內容

根據在以上專利文獻1中公開的技術，吸引力由于以下原因而根據環境濕度改變。在該技術中，在記錄介質和傳送構件之間的吸引力依賴于當由電極施加電壓時流過傳送構件和記錄介質的電流的量，并且電流的量依賴于濕度。當濕度低時，記錄介質的電阻大，從而電流并不趨向于流過記錄介質并且吸引力可以降低。根據對傳送構件充電的技術，當濕度高時傳送構件未被足夠地充電，從而引起并未足夠地獲得吸引力的風險。在沒有足夠地獲得吸引力的情況下，將記錄介質穩定地傳送到記錄頭是不可能的。

因此本發明的一個目的在于提供一種記錄設備，其中即使在環境、記錄介質的類型等等改變的情況下也能夠穩定地傳送記錄介質。

可以根據本發明的原理實現上述目的，本發明提供一種記錄設備，包括：

具有噴射表面的記錄頭，其中從所述噴射表面噴射液體；和

具有帶有傳送表面的傳送構件的傳送裝置，該傳送表面與該噴射表面相對并且在所述傳送表面上放置記錄介質，該傳送裝置被配置為通過移動傳送構件來在傳送方向上傳送記錄介質，

其中該記錄設備進一步包括第一吸引裝置和第二吸引裝置，每一個吸引裝置均被配置為允許放置在傳送表面上的記錄介質被吸引到傳送表面，

其中該第一吸引裝置包括：第一電極和第二電極，在記錄介質被放置在傳送表面上時，每一個電極均與記錄介質的一個表面相對，其中記錄介質的所述一個表面與記錄介質的面向噴射表面的另一表面相反；和第一電壓施加器，被配置為在第一電極和第二電極之間施加電壓，并且

其中該第二吸引裝置包括：放電體和第三電極，記錄介質和傳送構件中的至少一個被夾在它們之間；和第二電壓施加器，被配置為在放電體和第三電極之間施加電壓，第二吸引裝置被配置為使記錄介質和傳送構件中的至少一個帶電。

根據如上所述構造的記錄設備，通過在第一電極和第二電極之間施加電壓，記錄介質能夠被吸引到傳送構件。此外，通過利用放電體使記錄介質和傳送構件中的至少一個帶電，即，通過允許電流從放電體流動，記錄介質能夠被吸引到傳送構件。因此，在該記錄設備中，在當濕度低時和當濕度高時這兩種情形，利用第一吸引裝置和第二吸引裝置中的至少任一個，記錄介質能夠被足夠地吸引到傳送構件。

根據本發明的記錄設備可以進一步包括：被配置為探測濕度的濕度探測器；和控制器，其被配置為基于由濕度探測器探測的濕度來控制將由第一電壓施加器施加的電壓和將由第二電壓施加器施加的電壓中的至少一個。在如此構造的記錄設備中，基于濕度控制電壓，從而使得能夠適當地執行控制，以獲得把記錄介質足夠地吸引到傳送表面的吸引力并且降低或者限制電力消耗。

在根據本發明的記錄設備中，控制器可以被配置為基于由濕度探測器探測的濕度控制將由第一電壓施加器施加的電壓和將由第二電壓施加器施加的電壓中的至少一個，從而放置在傳送表面上的記錄介質被吸引到傳送表面所借助的吸引力被保持在規定范圍內。在如此構造的記錄設備中，能夠基于濕度適當地獲得吸引力。

在根據本發明的記錄設備中，控制器可以被配置為在由濕度探測器探測的濕度低于為第一電壓施加器設定的第一閾值濕度的情形中降低將由第一電壓施加器施加的電壓。當濕度降低時，不能利用第一吸引裝置足夠地獲得吸引力。據此，即使將由第一電壓施加器施加的電壓降低，總體吸引力也基本不受影響。因此，在整體上將吸引力保持在足夠水平的同時，能夠限制或者降低電力消耗。

在根據本發明的記錄設備中，控制器可以被配置為在由濕度探測器探測的濕度低于第一閾值濕度的情形中把將由第一電壓施加器施加的電壓降低至零。在如此構造的記錄設備中，能夠減小電力消耗。