[發明專利]放射線成像設備及其暗電流校正方法有效
| 申請號: | 201010141919.4 | 申請日: | 2010-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN101849834A | 公開(公告)日: | 2010-10-06 |
| 發明(設計)人: | 松浦友彥 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00;G01T1/16 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;陳立航 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放射線 成像 設備 及其 電流 校正 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種獲得放射線圖像的放射線成像設備和用于該設備的暗電流(dark?current)校正方法。
背景技術
在獲得放射線圖像(例如,X射線圖像)時,通過使用具有保持膠片和增感屏(intensifying?screen)的暗盒(cassette)的膠片/屏幕或者用于計算機放射線成像(computed?radiography)的暗盒中的成像板,來獲取被攝體的X射線圖像。
近年來,提出了實時將X射線圖像直接轉換成數字信號的X射線檢測器。這類X射線檢測器包括例如將固態光檢測器和閃爍體相互層疊而成的X射線檢測器。固態光檢測器使均由透明導電膜和導電膜形成的固態光檢測元件以矩陣形式排列在由石英玻璃制成的基板上的非晶態半導體上。閃爍體將X射線轉換成可見光。
還有各種已知的在不使用閃爍體的情況下利用固態光檢測器直接獲取X射線的X射線檢測器。與使用閃爍體的X射線檢測器不同,這類X射線檢測器不受由閃爍體引起的光散射的影響,因此通常被認為具有高的分辨率。還已知一種包括CCD或CMOS檢測器和閃爍體的組合以增加每單位時間拍攝的圖像數量的X射線檢測器。
通常,這些X射線檢測器將X射線的強度檢測為電荷量。由于該原因,為了獲取X射線圖像,需要復位像素中的電荷,積累電荷,傳送像素中的電荷,并且進行預定周期的驅動。
在X射線檢測器中,與由X射線產生的信號電荷一起積累與該信號電荷的積累時間成比例的暗電流成分的電荷。由于該原因,獲取的X射線圖像包含X射線信號成分和暗電流成分,因此在X射線成像中進行暗電流校正處理。在暗電流校正處理中,在沒有X射線照射的情況下,獲取僅包含暗電流成分的暗電流圖像。然后從X射線圖像減去獲取的暗電流圖像,以從X射線圖像去除暗電流成分。
在這種情況下,如上所述,在沒有X射線照射的情況下獲取暗電流圖像。由于該原因,通常,在獲得靜止圖像時,X射線檢測器在緊挨著X射線照射之前或之后獲取圖像。在獲得以X射線熒光圖像為代表的運動圖像時,由于通常需要實時觀察X射線圖像,因而X射線檢測器在X射線照射之前或者在數次X射線照射之間獲取圖像。在每單位時間獲取較大量圖像(例如,60fps)的IVR、血管造影術或CT等高速成像中,難以獲取數次X射線照射之間的暗電流圖像。由于該原因,在這類情況下,X射線檢測器經常使用在X射線照射之前獲取的暗電流圖像。
然而,通常,在這類X射線檢測器中,暗電流成分在驅動剛開始之后常常是不穩定的。因此,為了提高獲得的圖像的質量,需要保證從開始驅動到X射線照射有一定時間段。另一方面,為了提高X射線成像設備的可操作性,優選在操作者按下開始開關(例如,X射線照射開關)時迅速開始X射線照射。
為了解決該權衡問題,日本特開平07-236093號公報公開了一種用于根據成像時間、固態成像裝置的溫度、像素值和像素位置等改變和使用預先存儲的暗電流成分的技術。日本特開2007-222501號公報還公開了一種用于將驅動開始(供應電力)和像素特性變得穩定之間的時間分割成多個間隔并且預先測量并存儲各間隔中的暗電流成分的技術。該技術在成像時通過減去與各間隔相對應的暗電流成分來進行校正。
在日本特開平07-236093號公報所公開的技術的情況下,當要根據成像時的狀況來改變和使用預先存儲的暗電流成分時,需要監視成像時的狀況。這使得需要設置新的結構。另外,難以根據可能發生的所有狀況精確地改變暗電流成分。
在日本特開2007-222501號公報所公開的技術的情況下,當要在各間隔中存儲開始驅動之后的暗電流成分時,不可能充分考慮到由于成像時的實際狀況例如成像幀頻和固態成像裝置的溫度而引起的誤差。
用以解決上述權衡問題的簡單對策是通過始終驅動X射線檢測器,即始終向X射線檢測器通電來穩定暗電流成分。然而,在這種情況下,恐怕例如電力消耗將會增加并且該設備的使用壽命將會縮短。
發明內容
本發明提供一種通過使用基于在發出成像開始指示和開始X射線照射之間的間隔中檢測到的多個暗電流圖像所生成的校正數據來執行暗電流校正處理的技術。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于佳能株式會社,未經佳能株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010141919.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





