[發明專利]曝光機臺、陣列基板、圖案化薄膜、光刻膠層及形成方法有效
| 申請號: | 201010141540.3 | 申請日: | 2010-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN101846888A | 公開(公告)日: | 2010-09-29 |
| 發明(設計)人: | 蕭祥志;廖達文;楊志敏;陳珊芳;張雅萍;楊啟宏;廖崇源 | 申請(專利權)人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F1/14 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁揮;祁建國 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 機臺 陣列 圖案 薄膜 光刻 形成 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種曝光機臺、陣列基板、圖案化薄膜、圖案化光刻膠層,且涉及一種能曝出較小間距的曝光機臺。
背景技術
隨著液晶顯示器的顯示規格不斷地朝向大尺寸發展,市場對于液晶顯示器的性能要求是朝向高對比(High?Contrast?Ratio)、快速反應與廣視角等特性,為了克服大尺寸液晶顯示面板的視角問題,液晶顯示面板的廣視角技術也必須不停地進步與突破。其中,以多域垂直配向式(Multi-domain?VerticalAlignment?mode,MVA?mode)的液晶顯示面板為目前較為常見的廣視角技術,如多域垂直配向式(Multi-domain?Vertical?Alignment,MVA)液晶顯示面板、聚合物穩定配向(Polymer?Stabilized?Alignment,PSA)液晶顯示面板等。
以聚合物穩定配向液晶顯示面板為例,其像素電極包括多組條狀圖案,且各組條狀圖案之間以條狀狹縫(slit)彼此分隔,這些條狀圖案例如是將像素電極劃分為四個配向區域,使得液晶層內的液晶分子呈現多方向的傾倒,而達到廣視角的需求。然而,以現有技術來看,條狀圖案的寬度(line?width)與間隔(即狹縫的寬度)通常為5微米及3微米的組合,然而,在寬度/間隔為5微米/3微米的設計條件下,聚合物穩定配向液晶顯示面板的液晶效率(liquidcrystal?efficiency)仍有改善的空間。因此,為了進一步提升聚合物穩定配向液晶顯示面板的液晶效率,必須從縮小條狀圖案以及狹縫的寬度著手。
一般來說,條狀圖案的間距(pitch)主要是由作為其掩模層的圖案化光刻膠層決定,而圖案化光刻膠層的間距則取決于光掩模的遮光圖案的寬度及圖案設計。此外,由于曝光機臺的透鏡組是由多個彼此平行排列的條狀透鏡所組成,因此,任二相鄰條狀透鏡的銜接處會具有一重迭區域,這些重迭區域的光學特性會較差,而導致通過這些重迭區域的光線較弱。換言之,在相同的曝光條件下,會因為重迭區域的存在,導致對應到重迭區域的光刻膠材料層的曝光劑量不足,而曝出具有較大寬度及較小間隔的光刻膠圖案。如此一來,以光刻膠圖案為掩模所形成的條狀圖案雖具有相同的間距(即寬度與間隔的總和相同),但會具有不同的寬度/間隔比例,導致聚合物穩定配向液晶顯示面板的顯示畫面出現亮暗線的問題,即所謂的透鏡色不均(Lens?mura)。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種曝光機臺,能曝出較小間距。
本發明另提供一種圖案化薄膜的形成方法和圖案化光刻膠層的形成方法,其采用上述曝光機臺來進行曝光,以形成具有較小間距的圖案。
本發明又提供一種主動元件陣列基板,其中分布于不同區域的圖案具有不同的臨界尺寸。
本發明再提供一種圖案化薄膜,其中分布于不同區域的圖案具有不同的寬度/間隔比例。
為實現上述目的,本發明提出一種曝光機臺,適于對一薄膜上的一光刻膠層進行曝光,以于光刻膠層上形成多個條狀曝光圖案,而曝光機臺包括一光源、一透鏡組以及一光掩模。透鏡組配置于光刻膠層與光源之間,透鏡組包括多個彼此平行排列的條狀透鏡,其中任二相鄰條狀透鏡的重迭區域定義為一透鏡接合區域,而透鏡接合區域以外的區域則定義為多個透鏡區域。光掩模配置于光刻膠層與透鏡組之間,其中光掩模具有多個遮光圖案,遮光圖案的外輪廓對應于條狀曝光圖案,而各遮光圖案分別具有一條狀開口,且條狀開口的延伸方向實質上平行于遮光圖案的延伸方向。
其中,各該遮光圖案的寬度為L,任二相鄰遮光圖案之間的間隔為S,且寬度L與間隔S的總和為6微米。
其中,寬度L為4微米,間隔S為2微米。
其中,寬度L為3.5微米,間隔S為2.5微米。
其中,該光掩模具有多個第一曝光區域以及多個第二曝光區域,該第一曝光區域與該第二曝光區域交替排列,各該第一曝光區域分別對應于其中一透鏡接合區域,且各該第二曝光區域分別對應于其中一透鏡區域。
其中,位于該第一曝光區域內的遮光圖案包括:多個第一遮光圖案,各該第一遮光圖案分別具有一第一條狀開口;以及多個第二遮光圖案,各該第二遮光圖案分別具有一第二條狀開口,其中各該第一條狀開口的寬度為SB1,各該第二條狀開口的寬度為SB2,且寬度SB1小于寬度SB2。
其中,在該第二曝光區域內,各該遮光圖案的條狀開口的寬度為SB,且寬度SB等于寬度SB1。
其中,寬度SB1為1.0微米,寬度SB2為1.1微米。
其中,該第二遮光圖案隨機分布于該第一曝光區域內。
其中,該第二遮光圖案在該第一曝光區域內的分布密度由中央往兩側遞減。
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