[發明專利]改進降解性能的納米CeO2基光催化劑的制備

無效

• 申請號: 201010141255.1
• 申請日: 2010-04-08
• 公開（公告）號: CN101797504A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: 張其春;王學彩;段有鵬;葉巧明;李綱
• 申請（專利權）人: 成都理工大學
• 主分類號: B01J23/66
• 分類號: B01J23/66
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種CeO₂基光催化劑，特別是一種改進降解性能的納米Ag/Al₂O₃-CeO₂光催 化劑的制備方法，本方法提高了銀修飾的CeO₂基光催化劑被紫外光和可見光激活的活性，相 應地改進了CeO₂基光催化劑催化降解有機污染物的能力。本發明屬于無機納米光催化材料領 域。

背景技術

在環境保護中，由于半導體光催化降解技術具有常溫常壓下反應、能夠徹底氧化有機污 染物、費用低、毒性低、無二次污染等綠色環保特性，使得利用半導體光催化降解有機污染 物受到廣泛關注。

ZL?2007?1?0049139.5提供了一種具有可見光響應能力的Ag/CeO₂光催化劑的制備方法， 能夠在可見光照射下激發該Ag/CeO₂催化劑的光催化降解活性。本發明對此專利的制備方法 進行改進，選用由勃姆石、方鈰石納米晶構成雙組分分散相的鋁鈰溶膠為料液，通過溶膠聚 沉方法制備出對紫外光具有高響應能力的納米鋁鈰粉體，然后對所獲鋁鈰粉體表面進行銀修 飾，從而顯著改善了Ag修飾的CeO₂基光催化劑在紫外光及可見光照射下降解有機污染物的 能力。

發明內容

本發明的目的在于改善現有技術獲得的CeO₂基光催化劑(Ag/CeO₂光催化劑)對有機污 染物的降解能力。本發明提供一種改進降解性能的CeO₂基光催化劑的制備方法，特別是一種 納米Ag/Al₂O₃-CeO₂光催化劑的制備方法，所獲的Ag/Al₂O₃-CeO₂光催化劑的光催化效果明 顯優于使用現有技術合成的納米Ag/CeO₂光催化劑，該催化劑在紫外光及可見光照射下均能 夠更為有效地催化降解有機污染物。

根據上述發明目的，本發明所提供的一種改進降解性能的納米Ag/Al₂O₃-CeO₂光催化劑 的制備方法，其特征在于使用由勃姆石、方鈰石納米晶構成雙組分分散相的鋁鈰溶膠為料液， 并通過如下工藝步驟實現：

(1)通過溶膠聚沉方法制得納米鋁鈰粉體：向勃姆石-方鈰石雙組分納米水溶膠中加入 能夠在溶液溫度升高時逐漸釋放OH^-的物質作為沉淀劑，如尿素或六次甲基四胺，并加熱， 尿素或六次甲基四胺將會隨溶液溫度升高、加熱時間增長而緩慢水解，逐漸釋放出OH^-，使 溶膠的pH值逐漸升高，導致溶膠失穩，從中析出沉淀，經固液分離、洗滌、干燥，獲得納 米鋁鈰粉體。

(2)通過浸漬-沉淀方法向納米鋁鈰粉體表面覆銀。

(3)對表面覆銀的納米鈰鋁粉體進行煅燒活化，制得納米Ag/Al₂O₃-CeO₂光催化劑。